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1. (WO2018044924) SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION ET DE RETENUE D'UN PLASMA
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N° de publication : WO/2018/044924 N° de la demande internationale : PCT/US2017/049178
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 29.08.2017
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 13.03.2018
CIB :
H05H 1/36 (2006.01) ,H05H 1/40 (2006.01) ,H05H 1/48 (2006.01) ,H05H 1/50 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
H
TECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1
Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
24
Production du plasma
26
Torches à plasma
32
utilisant un arc
34
Détails, p.ex. électrodes, buses
36
Dispositions des circuits
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
H
TECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1
Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
24
Production du plasma
26
Torches à plasma
32
utilisant un arc
34
Détails, p.ex. électrodes, buses
40
utilisant des champs magnétiques appliqués, p.ex. pour focaliser ou pour faire tourner l'arc
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
H
TECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1
Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
24
Production du plasma
48
utilisant un arc
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
H
TECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1
Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
24
Production du plasma
48
utilisant un arc
50
et utilisant des champs magnétiques appliqués, p.ex. pour focaliser ou pour faire tourner l'arc
Déposants :
PLASSEIN TECHNOLOGIES LTD. LLC [US/US]; 848 N Rainbow Blvd., #5254 Las Vegas, NV 89107, US
JH PLASMA, INC. [US/US]; 7059 Red Arrow Hyw. Stevensville, MI 49127, US
Inventeurs :
HUNT, Jack, A.; US
Mandataire :
HELLER III, Edward, P.; US
Données relatives à la priorité :
62/380,93529.08.2016US
62/551,47429.08.2017US
Titre (EN) SYSTEM AND METHOD FOR GENERATING AND CONTAINING A PLASMA
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION ET DE RETENUE D'UN PLASMA
Abrégé :
(EN) A novel plasma generation and containment system includes a first electrode, a second electrode, a power source, and an electromagnet. The first electrode and the second electrode are electrically coupled via a wire to form an open circuit. The voltage is asserted on the open circuit to form a spark between the first electrode and the second electrode to form a closed circuit. Then, a current is asserted on the closed circuit to form a plasma between the first electrode and the second electrode. The electromagnet provides a magnetic field to contain and compress the plasma.
(FR) La présente invention concerne un nouveau système de production et de retenue de plasma, comprenant des première et seconde électrodes, une source d'alimentation et un électroaimant. Les première et seconde électrodes sont couplées électriquement par l'intermédiaire d'un fil de manière à former un circuit ouvert. La tension est affirmée sur le circuit ouvert de manière à former une étincelle entre les première et seconde électrodes afin de former un circuit fermé. Ensuite, un courant est affirmé sur le circuit fermé de manière à former un plasma entre les première et seconde électrodes. L'électroaimant fournit un champ magnétique afin de retenir et comprimer le plasma.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)