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1. (WO2018044821) RÉDUCTION DE LA TENEUR EN MONOMÈRES RÉSIDUELS DANS DES COPOLYMÈRES DE STYRÈNE ET DE VINYLPYRIDINE
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N° de publication : WO/2018/044821 N° de la demande internationale : PCT/US2017/048984
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 29.08.2017
CIB :
C08F 6/06 (2006.01) ,C08F 6/12 (2006.01) ,C08F 6/10 (2006.01) ,C08L 25/08 (2006.01) ,C08L 25/10 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
6
Traitements postérieurs à la polymérisation
06
Traitement des solutions de polymères
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
6
Traitements postérieurs à la polymérisation
06
Traitement des solutions de polymères
12
Séparation des polymères à partir des solutions
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
6
Traitements postérieurs à la polymérisation
06
Traitement des solutions de polymères
10
Elimination des matières volatiles, p.ex. monomères, solvants
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
25
Compositions contenant des homopolymères ou des copolymères de composés possédant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chacun ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par un cycle carbocyclique aromatique; Compositions des dérivés de tels polymères
02
Homopolymères ou copolymères d'hydrocarbures
04
Homopolymères ou copolymères du styrène
08
Copolymères du styrène
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
25
Compositions contenant des homopolymères ou des copolymères de composés possédant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chacun ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par un cycle carbocyclique aromatique; Compositions des dérivés de tels polymères
02
Homopolymères ou copolymères d'hydrocarbures
04
Homopolymères ou copolymères du styrène
08
Copolymères du styrène
10
avec des diènes conjugués
Déposants :
NOVUS INTERNATIONAL INC. [US/US]; 20 Research Park Drive St. Charles, Missouri 63304, US
Inventeurs :
WANG, Xiaojun; US
ARHANCET, Graciela B.; US
EMBSE, Richard Vonder; US
HUME, John; US
Mandataire :
BISSEN, Shirley T.; US
CRAWFORD, Bradley; US
DOTY, Kathryn; US
JOHNSON, Charles A.; US
KIRLEY, Morgan J.; US
KREPEL, Allison; US
NEALEY, Tara A.; US
RILEY-VARGAS, Rebecca; US
Données relatives à la priorité :
62/381,42530.08.2016US
62/443,54406.01.2017US
Titre (EN) REDUCING RESIDUAL MONOMER CONTENT IN COPOLYMERS OF STYRENE AND VINYLPYRIDINE
(FR) RÉDUCTION DE LA TENEUR EN MONOMÈRES RÉSIDUELS DANS DES COPOLYMÈRES DE STYRÈNE ET DE VINYLPYRIDINE
Abrégé :
(EN) Copolymers of styrene and vinylpyridine having residual monomer levels of less than about 1000 parts per billion and processes for preparing said copolymers.
(FR) L'invention concerne des copolymères de styrène et de vinylpyridine présentant des taux de monomères résiduels inférieurs à environ 1 000 parties par milliard et des procédés de préparation desdits copolymères.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)