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1. (WO2018044678) NACELLE DE RÉTICULE PRÉSENTANT UN CONFINEMENT LATÉRAL DE RÉTICULE
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N° de publication : WO/2018/044678 N° de la demande internationale : PCT/US2017/048396
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 24.08.2017
CIB :
G03F 1/66 (2012.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/673 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1
Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
66
Réceptacles spécialement adaptés aux masques, aux masques vierges ou aux pellicules; Leur préparation
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
673
utilisant des supports spécialement adaptés
Déposants :
ENTEGRIS, INC. [US/US]; 129 Concord Billerica, Massachusetts 01821, US
Inventeurs :
RASCHKE, Russ; US
GREGERSON, Barry; US
EGGUM, Shawn; US
Mandataire :
SCHULTE, Daniel, C.; US
BERGER, Scott A.; US
BINDER, Mark, W.; US
BJORKMAN, Dale, A.; US
BUSSE, Paul, W.; US
HAKAMAKI, Michaele, A.; US
JIMENEZ, Jose, W.; US
KAGAN, David, B.; US
PARINS, Paul, J.; US
WEAVER, Paul, L.; US
CHAPPUIS, Margaret; US
PILLION, John E.; US
GATES, Catherine D.; US
KISSOON, Nidhi; US
SZYMANSKI, Brian E.; US
HORNILLA, Arlene L.; US
Données relatives à la priorité :
62/380,37727.08.2016US
62/405,51807.10.2016US
62/422,22915.11.2016US
Titre (EN) RETICLE POD HAVING SIDE CONTAINMENT OF RETICLE
(FR) NACELLE DE RÉTICULE PRÉSENTANT UN CONFINEMENT LATÉRAL DE RÉTICULE
Abrégé :
(EN) A reticle pod includes an outer pod, an inner pod cover and an inner base plate. A reticle is supported on the base and is contained within the environment created by the inner pod cover and the inner pod base. The inner pod cover can include a plurality of reticle retainers configured to contact a side wall of the reticle and limit movement of the reticle in a horizontal direction.
(FR) Une nacelle de réticule comprend une nacelle externe, un couvercle de nacelle interne et une plaque de base interne. Un réticule est supporté sur la base et est contenu à l'intérieur de l'environnement créé par le couvercle de nacelle interne et la base de nacelle interne. Le couvercle de nacelle interne peut comprendre une pluralité d'éléments de retenue de réticule conçus pour entrer en contact avec une paroi latérale du réticule et limiter le mouvement du réticule dans la direction horizontale.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)