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1. (WO2018044164) PROCÉDÉ DE MESURE D'ENDOMMAGEMENT D'UN SUBSTRAT PROVOQUÉ PAR UN FAISCEAU D'ÉLECTRONS
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N° de publication : WO/2018/044164 N° de la demande internationale : PCT/NL2017/050572
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 30.08.2017
CIB :
G01Q 30/02 (2010.01) ,G01N 29/04 (2006.01) ,G01N 23/225 (2018.01) ,G01Q 60/32 (2010.01) ,G01N 23/2251 (2018.01)
Déposants : NEDERLANDSE ORGANISATIE VOOR TOEGEPAST-NATUURWETENSCHAPPELIJK ONDERZOEK TNO[NL/NL]; Anna van Buerenplein 1 2595 DA 'S-Gravenhage, NL
Inventeurs : SADEGHIAN MARNANI, Hamed; NL
Mandataire : JANSEN, C.M.; V.O. P.O. Box 87930 2508 DH Den Haag, NL
Données relatives à la priorité :
16186519.131.08.2016EP
Titre (EN) METHOD FOR MEASURING DAMAGE OF A SUBSTRATE CAUSED BY AN ELECTRON BEAM
(FR) PROCÉDÉ DE MESURE D'ENDOMMAGEMENT D'UN SUBSTRAT PROVOQUÉ PAR UN FAISCEAU D'ÉLECTRONS
Abrégé : front page image
(EN) A method for measuring damage (D) of a substrate (1) caused by an electron beam (2). The method comprises using an atomic force microscope (AFM) to provide a measurement (S2) of mechanical and/or chemical material properties (P2) of the substrate (1) at an exposure area (la) of the electron beam (2). The method further comprises calculating a damage parameter (Sd) indicative for the damage (D) based on the measurement (S2) of the material properties (P2) at the exposure area (1a).
(FR) L'invention concerne un procédé de mesure d'endommagement (D) d'un substrat (1) provoqué par un faisceau d'électrons (2). Le procédé comprend l'utilisation d'un microscope à force atomique (AFM) permettant de fournir une mesure (S2) de propriétés de matériau mécanique et/ou chimique (P2) du substrat (1) au niveau d'une zone d'exposition (la) du faisceau d'électrons (2). Le procédé comprend en outre le calcul d'un paramètre d'endommagement (Sd) indiquant l'endommagement (D) sur la base de la mesure (S2) des propriétés matérielles (P2) au niveau de la zone d'exposition (1a).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)