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1. (WO2018044008) COMPOSITION POUR REVÊTEMENT DUR, FEUILLE DÉCORATIVE UTILISANT CELUI-CI, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FEUILLE DÉCORATIVE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2018/044008    N° de la demande internationale :    PCT/KR2017/009353
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 28.08.2017
CIB :
C09D 4/00 (2006.01), C09D 4/06 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01), B32B 27/08 (2006.01)
Déposants : LG HAUSYS, LTD. [KR/KR]; One IFC Building, 10 Gukjegeumyung-ro Yeongdeungpo-gu Seoul 07326 (KR)
Inventeurs : SONG, Yea-Ri; (KR).
KIM, Yu-Jun; (KR).
PARK, Min-Kyung; (KR).
CHOI, Tae-Yi; (KR)
Mandataire : DAE-A INTELLECTUAL PROPERTY CONSULTING; 3F, Hanyang Bldg., 123 Yeoksam-ro Gangnam-gu Seoul 06243 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2016-0111335 31.08.2016 KR
Titre (EN) COMPOSITION FOR HARD COATING, DECORATION SHEET USING SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING DECORATION SHEET
(FR) COMPOSITION POUR REVÊTEMENT DUR, FEUILLE DÉCORATIVE UTILISANT CELUI-CI, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FEUILLE DÉCORATIVE
(KO) 하드코팅용 조성물, 이를 이용한 데코시트 및 데코시트의 제조방법
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a composition for hard coating, the composition comprising: a (meth)acrylic monomer having a C4-C20 cycloalkyl group or a C4-C20 heterocycloalkyl group; and a urethane (meth)acrylic oligomer having a linear or branched alkyl group.
(FR)La présente invention concerne une composition pour revêtement dur, la composition comprenant : un monomère (méth)acrylique comprenant un groupe cycloalkyle en C4-C20 ou un groupe hétérocycloalkyle en C4-C20 ; et un oligomère (méth)acrylique d'uréthane comprenant un groupe alkyle linéaire ou ramifié.
(KO)C4-C20의 시클로 알킬기 또는 C4-C20의 헤테로 시클로 알킬기를 갖는 (메타)아크릴계 모노머; 및 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 우레탄 (메타)아크릴계 올리고머;를 포함하는 하드코팅용 조성물을 제공한다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)