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1. (WO2018043984) COMPOSITION DE LATEX POUR MOULAGE PAR IMMERSION, ET ARTICLE MOULÉ PRÉPARÉ À PARTIR DE CELLE-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2018/043984    N° de la demande internationale :    PCT/KR2017/009189
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 23.08.2017
CIB :
C08L 9/04 (2006.01), C08K 5/053 (2006.01), C08L 51/00 (2006.01), C08J 5/02 (2006.01)
Déposants : LG CHEM, LTD. [KR/KR]; 128, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul 07336 (KR)
Inventeurs : YANG, Seung Hun; (KR).
KIM, Jung Eun; (KR).
JOE, Won Tae; (KR).
KWON, Wonsang; (KR)
Mandataire : KIM, Sung Ho; (KR).
PARK, Hyung-Dal; (KR).
KIM, Byeong Pil; (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2016-0112679 01.09.2016 KR
Titre (EN) LATEX COMPOSITION FOR DIP-MOLDING, AND MOLDED ARTICLE PREPARED FROM SAME
(FR) COMPOSITION DE LATEX POUR MOULAGE PAR IMMERSION, ET ARTICLE MOULÉ PRÉPARÉ À PARTIR DE CELLE-CI
(KO) 딥 성형용 라텍스 조성물 및 이로부터 제조된 성형품
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a latex composition for dip-molding, and to a molded article prepared from same. More particularly, monoglyceride is used in the composition, and thus a dip-molded article having smooth syneresis, lacking stickiness, and having excellent chemical resistance can be prepared.
(FR)La présente invention concerne une composition de latex pour moulage par immersion, et un article moulé préparé à partir de celle-ci. Plus particulièrement, un monoglycéride est utilisé dans la composition, et ainsi un article moulé par immersion présentant une synérèse lisse, ne présentant pas de caractère collant, et présentant une excellente résistance chimique peut être préparé.
(KO)본 발명은 딥 성형용 라텍스 조성물 및 이로부터 제조된 성형품에 관한 것으로, 보다 구체적으로 상기 조성물은 모노글리세리드를 사용하여 시너리시스가 완만하고, 끈적임이 없으며 내화학성이 우수한 딥 성형품의 제작이 가능하다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)