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1. (WO2018043690) SOLUTION, RÉCEPTACLE POUR SOLUTION, COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF À SEMI-CONDUCTEURS
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N° de publication :    WO/2018/043690    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/031514
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 01.09.2017
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : KAMIMURA Tetsuya; (JP).
TAKAHASHI Satomi; (JP).
KAWADA Yukihisa; (JP)
Mandataire : WATANABE Mochitoshi; (JP).
MIWA Haruko; (JP).
ITOH Hideaki; (JP).
MITSUHASHI Fumio; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-172244 02.09.2016 JP
2017-166085 30.08.2017 JP
Titre (EN) SOLUTION, SOLUTION ACCOMMODATING BODY, ACTIVE LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICES
(FR) SOLUTION, RÉCEPTACLE POUR SOLUTION, COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF À SEMI-CONDUCTEURS
(JA) 溶液、溶液収容体、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、半導体デバイスの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention addresses the problem of providing a solution which exhibits excellent organic solvent stability over time, and excellent defect inhibiting properties. The present invention also addresses the problem of providing: a solution accommodating body in which the solution is accommodated; an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition including the solution; and a pattern formation method and a method for producing semiconductor devices which use the solution. This solution includes an organic solvent and a stabilizer. The stabilizer content is 0.1-50 ppm by mass with respect to the total mass of the solution.
(FR)L’invention a pour objet de fournir une solution qui se révèle excellente en termes de stabilité au cours du temps d'un solvant organique et de propriétés d’inhibition des défauts. En outre, l’invention a également pour objet de fournir un réceptacle pour solution recevant ladite solution, une composition de résine sensible à la lumière active ou sensible au rayonnement comprenant ladite solution, et un procédé de formation de motif ainsi qu’un procédé de fabrication de dispositif à semi-conducteurs qui mettent en œuvre ladite solution. La solution de l’invention comprend le solvant organique, et un stabilisateur selon une teneur comprise entre 0,1 et 50ppm en masse pour l’ensemble de la masse de la solution.
(JA)本発明の課題は、有機溶媒の経時安定性に優れ、且つ、欠陥抑制性にも優れた溶液を提供することにある。また、本発明の他の課題は、上記溶液を収容した溶液収容体、上記溶液を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、上記溶液を用いたパターン形成方法及び半導体デバイスの製造方法を提供することにある。 本発明の溶液は、有機溶媒と、安定化剤と、を含有する溶液であり、上記安定化剤の含有量が、溶液全質量に対して0.1~50質量ppmである。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)