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1. (WO2018043654) DISPOSITIF D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET APPAREIL ÉLECTRONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2018/043654    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/031394
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 31.08.2017
CIB :
H01L 27/146 (2006.01), G02B 5/20 (2006.01), G02B 5/22 (2006.01), H04N 9/07 (2006.01)
Déposants : SONY SEMICONDUCTOR SOLUTIONS CORPORATION [JP/JP]; 4-14-1, Asahi-cho, Atsugi-shi, Kanagawa 2430014 (JP)
Inventeurs : NAKAJIKI Sintaro; (JP).
SAYAMA Yukihiro; (JP)
Mandataire : NISHIKAWA Takashi; (JP).
INAMOTO Yoshio; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-171862 02.09.2016 JP
2017-160855 24.08.2017 JP
Titre (EN) SOLID-STATE IMAGING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND ELECTRONIC APPARATUS
(FR) DISPOSITIF D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET APPAREIL ÉLECTRONIQUE
(JA) 固体撮像装置およびその製造方法、並びに電子機器
Abrégé : front page image
(EN)This technology pertains to a solid-state imaging device that is capable of suppressing the generation of color mixing, a manufacturing method therefor, and an electronic apparatus. This solid-state imaging device is provided with a plurality of pixels arranged in a pixel region. Each of the pixels has: a first optical filter layer provided on a photoelectric conversion unit; a second optical filter layer provided on the first optical filter layer; and a separation wall that separates at least a portion of the first optical filter layer for each pixel. Either one of the first optical filter layer or the second optical filter layer corresponding to at least one pixel is formed by an infrared ray cut filter, while the other is formed by a color filter. This technology can be applied to a CMOS image sensor provided with visible light pixels.
(FR)Cette technologie concerne un dispositif d'imagerie à semi-conducteurs qui est capable d’empêcher la génération de mélange de couleurs, son procédé de fabrication, et un appareil électronique. Ce dispositif d'imagerie à semi-conducteurs est pourvu d'une pluralité de pixels agencés dans une région de pixels. Chacun des pixels comprend : une première couche de filtre optique disposée sur une unité de conversion photoélectrique; une seconde couche de filtre optique disposée sur la première couche de filtre optique; et une paroi de séparation qui sépare au moins une partie de la première couche de filtre optique pour chaque pixel. L'une ou l'autre de la première couche de filtre optique ou de la seconde couche de filtre optique correspondant à au moins un pixel est formée par un filtre de coupure de rayon infrarouge, tandis que l'autre est formée par un filtre de couleur. Cette technologie peut être appliquée à un capteur d'image CMOS pourvu de pixels de lumière visible.
(JA)本技術は、混色の発生を抑制することができるようにする固体撮像装置およびその製造方法、並びに電子機器に関する。 固体撮像装置は、画素領域に配列された複数の画素を備え、画素は、光電変換部の上に設けられた第1の光学フィルタ層と、第1の光学フィルタ層の上に設けられた第2の光学フィルタ層と、少なくとも第1の光学フィルタ層の一部を画素毎に分離する分離壁とを有し、少なくともいずれか1つの画素の第1の光学フィルタ層および第2の光学フィルタ層のいずれか一方は、赤外線カットフィルタにより形成され、他方は、カラーフィルタにより形成される。本技術は、可視光用画素を備えるCMOSイメージセンサに適用することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)