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1. (WO2018043641) MATÉRIAU POUR MASQUE MÉTALLIQUE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/043641 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/031348
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 31.08.2017
CIB :
C22C 38/00 (2006.01) ,C22C 38/08 (2006.01) ,C21D 9/46 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
22
MÉTALLURGIE; ALLIAGES FERREUX OU NON FERREUX; TRAITEMENT DES ALLIAGES OU DES MÉTAUX NON FERREUX
C
ALLIAGES
38
Alliages ferreux, p.ex. aciers alliés
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
22
MÉTALLURGIE; ALLIAGES FERREUX OU NON FERREUX; TRAITEMENT DES ALLIAGES OU DES MÉTAUX NON FERREUX
C
ALLIAGES
38
Alliages ferreux, p.ex. aciers alliés
08
contenant du nickel
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
21
MÉTALLURGIE DU FER
D
MODIFICATION DE LA STRUCTURE PHYSIQUE DES MÉTAUX FERREUX; DISPOSITIFS GÉNÉRAUX POUR LE TRAITEMENT THERMIQUE DES MÉTAUX FERREUX OU NON FERREUX, OU DES ALLIAGES; PROCÉDÉS POUR RENDRE LE MÉTAL MALLÉABLE PAR DÉCARBURATION, REVENU OU AUTRES TRAITEMENTS
9
Traitement thermique, p.ex. recuit, durcissement, trempe, revenu, adapté à des objets particuliers; Fours à cet effet
46
pour tôles
Déposants : HITACHI METALS,LTD.[JP/JP]; 2-70, Konan 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1088224, JP
Inventeurs : OMORI, Akihiro; JP
OKAMOTO, Takuya; JP
IIDA, Yasuyuki; JP
Données relatives à la priorité :
2016-16988031.08.2016JP
Titre (EN) METAL MASK MATERIAL AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) MATÉRIAU POUR MASQUE MÉTALLIQUE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI
(JA) メタルマスク用素材およびその製造方法
Abrégé :
(EN) Provided are: a metal mask material the shape change of which after etching is suppressed and which has more excellent etching properties; and a production method for the metal mask material. The metal mask material has a surface roughness in the rolling direction and a surface roughness in a direction perpendicular to the rolling direction, which satisfy 0.05 μm≤Ra≤0.25 μm and Rz≤1.5μm, and has a skewness Rsk of less than 0. When a sample having a length of 150 mm and a width of 30 mm is cut out of the metal mask material and the thickness of the sample is reduced by 60% by etching from one side of the sample, the amount of warpage of the sample is 15 mm or less. The metal mask material has a thickness of not less than 0.01 mm but less than 0.10 mm.
(FR) L’invention fournit un matériau pour masque métallique qui tout en inhibant une déformation après gravure, possède des propriétés de gravure satisfaisantes. L’invention fournit également un procédé de fabrication de ce matériau pour masque métallique. Ledit matériau pour masque métallique présente une rugosité superficielle dans une direction de laminage et une rugosité superficielle dans une direction perpendiculaire à la direction de laminage respectivement telles que 0,05μm≦Ra≦0,25μm et Rz≦1,5μm, et une asymétrie (Rsk) inférieure à 0. Un échantillon de 150mm de longueur et de 30mm de largeur est découpé dans ledit matériau pour masque métallique, et ledit échantillon est gravé par un côté. Lorsque 60% de l’épaisseur dudit échantillon est retirée, la quantité de courbure est inférieure ou égale à 15mm, et son épaisseur est supérieure ou égale à 0,01mm et inférieure à 0,10mm.
(JA) エッチング後の形状変化を抑制するとともに、さらに良好なエッチング性を有するメタルマスク用素材とその製造方法を提供する。 圧延方向における表面粗さと圧延方向と直交する方向における表面粗さとがともに、0.05μm≦Ra≦0.25μm、Rz≦1.5μm以下、スキューネスRskが0未満であり、前記メタルマスク用素材から長さ150mm、幅30mmの試料を切り出し、前記試料を片側からエッチングし、前記試料の板厚の60%を除去したときの反り量が15mm以下であり、板厚が0.01mm以上0.10mm未満であるメタルマスク用素材。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)