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1. (WO2018043504) COMPOSITION DE POLISSAGE ET ENSEMBLE DE COMPOSITION DE POLISSAGE

Pub. No.:    WO/2018/043504    International Application No.:    PCT/JP2017/031008
Publication Date: Fri Mar 09 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Wed Aug 30 01:59:59 CEST 2017
IPC: C09K 3/14
B24B 37/00
H01L 21/304
Applicants: FUJIMI INCORPORATED
株式会社フジミインコーポレーテッド
TOAGOSEI CO.,LTD.
東亞合成株式会社
Inventors: TSUCHIYA, Kohsuke
土屋 公亮
TANSHO, Hisanori
丹所 久典
ICHITSUBO, Taiki
市坪 大輝
ASADA, Maki
浅田 真希
Title: COMPOSITION DE POLISSAGE ET ENSEMBLE DE COMPOSITION DE POLISSAGE
Abstract:
L'invention concerne une composition de polissage qui est efficace pour réduire les défauts de surface. Une composition de polissage selon la présente invention contient des grains abrasifs, un polymère soluble dans l'eau et un composé basique. Le polymère soluble dans l'eau contient un polymère A qui satisfait à la fois à la condition (1) et à la condition (2) décrites ci-dessous. (1) Chaque molécule contient un motif d'alcool vinylique et un motif d'alcool non vinylique. (2) Le paramètre d'adsorption tel que calculé par [(C1-C2)/C1] × 100 est supérieur ou égal à 5. Dans la formule, C1 représente la quantité totale de carbone organique contenue dans un liquide de test L1 qui contient 0,017 % en poids du polymère A et 0,009 % en poids d'ammoniac ; et C2 représente la quantité totale de carbone organique contenue dans un surnageant qui est obtenu par le fait de soumettre un liquide de test L2, qui contient 0,46 % en poids d'une silice colloïdale présentant un diamètre BET de 35 nm, 0,017 % en poids du polymère A et 0,009 % en poids d'ammoniac, à une séparation centrifuge, ce qui permet d'éliminer les grains abrasifs.