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1. (WO2018043371) COMPOSÉ POLYMÈRE, FILM DANS LEQUEL LE COMPOSÉ POLYMÈRE EST DURCI ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE COMPRENANT LE FILM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/043371 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/030665
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 28.08.2017
CIB :
C08F 220/22 (2006.01) ,C08F 212/14 (2006.01) ,C08F 220/20 (2006.01) ,C08F 220/36 (2006.01) ,C08G 18/62 (2006.01) ,C08G 18/80 (2006.01) ,C09D 175/04 (2006.01) ,H01L 21/336 (2006.01) ,H01L 29/786 (2006.01) ,H01L 51/05 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED[JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260, JP
Inventeurs : YOKOI, Yuki; JP
Mandataire : NAKAYAMA, Tohru; JP
SAKAMOTO, Toru; JP
Données relatives à la priorité :
2016-17154502.09.2016JP
Titre (EN) POLYMER COMPOUND, FILM IN WHICH THE POLYMER COMPOUND IS CURED, AND ELECTRONIC DEVICE INCLUDING THE FILM
(FR) COMPOSÉ POLYMÈRE, FILM DANS LEQUEL LE COMPOSÉ POLYMÈRE EST DURCI ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE COMPRENANT LE FILM
(JA) 高分子化合物、該高分子化合物を硬化した膜及び該膜を含む電子デバイス
Abrégé : front page image
(EN) A polymer compound including repeating units having at least one group selected from the group consisting of blocked isocyanato groups and blocked isothiocyanato groups, a repeating unit having at least one group selected from the group consisting of hydroxy groups and carboxy groups, and a repeating unit represented by formula (1), wherein, assuming the total amount of all repeating units included in the polymer compound is 100 mol%, the amount of repeating units having at least one group selected from the group consisting of blocked isocyanato groups and blocked isothiocyanato groups in the polymer is 1 to 30 mol%. (In formula (1), R1, R2, and R3 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group).
(FR) L'invention concerne un composé polymère comprenant des motifs récurrents présentant au moins un groupe choisi dans le groupe constitué par les groupes isocyanato bloqués et les groupes isothiocyanato bloqués, un motif récurrent présentant au moins un groupe choisi dans le groupe constitué par les groupes hydroxy et les groupes carboxy et un motif récurrent représenté par la formule (1), où, en supposant que la quantité totale de tous les motifs récurrents compris dans le composé polymère est de 100 % en mole, la quantité de motifs récurrents présentant au moins un groupe choisi dans le groupe constitué par les groupes isocyanato bloqués et les groupes isothiocyanato bloqués dans le polymère est de 1 à 30 % en mole. (Dans la formule (1), R1, R2 et R3 représentent, chacun indépendamment, un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle).
(JA) ブロック化イソシアナト基及びブロック化イソチオシアナト基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を有する繰り返し単位と、 ヒドロキシ基及びカルボキシ基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を有する繰り返し単位と、 下記式(1)で表される繰り返し単位と を含む高分子化合物であって、 前記高分子化合物に含まれる全ての繰り返し単位の合計含有量を100mol%として、 高分子化合物中のブロック化イソシアナト基及びブロック化イソチオシアナト基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を有する繰り返し単位の含有量が1モル%以上30モル%以下である高分子化合物。(式(1)中、R、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子、又はメチル基を表す。) 
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)