WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2018043218) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE, FILM DURCI, FILTRE OPTIQUE, CORPS STRATIFIÉ, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, ÉLÉMENT D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS, DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGE ET CAPTEUR INFRAROUGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2018/043218    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/030001
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 23.08.2017
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G02B 5/22 (2006.01), G03F 7/027 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : MIYATA Tetsushi; (JP).
TAKAHASHI Kazutaka; (JP).
OKAWARA Takahiro; (JP)
Mandataire : SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-167945 30.08.2016 JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, CURED FILM, OPTICAL FILTER, LAMINATED BODY, PATTERN FORMATION METHOD, SOLID-STATE IMAGING ELEMENT, IMAGE DISPLAY DEVICE, AND INFRARED SENSOR
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE, FILM DURCI, FILTRE OPTIQUE, CORPS STRATIFIÉ, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, ÉLÉMENT D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS, DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGE ET CAPTEUR INFRAROUGE
(JA) 感光性組成物、硬化膜、光学フィルタ、積層体、パターン形成方法、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a photosensitive composition that enables forming a cured film having a pattern in which heat shrinkage is inhibited and which is of preferable rectangularity. Also provided are a cured film, an optical filter, a laminated body, a pattern formation method, a solid-state imaging element, an image display device, and an infrared sensor that all use said photosensitive composition. This photosensitive composition comprises a near-infrared absorbent, a curable compound, a photo initiator, and an ultraviolet absorbent, wherein the ultraviolet absorbent shows a mass reduction rate of at most 5% at 150°C and a mass reduction rate of at least 40% at 220°C, as measured by thermogravimetry.
(FR)La présente invention concerne une composition photosensible qui permet de former un film durci ayant un motif dans lequel un retrait thermique est empêché et dont la rectangularité est préférable. L'invention concerne également un film durci, un filtre optique, un corps stratifié, un procédé de formation de motif, un élément d'imagerie à semi-conducteurs, un dispositif d'affichage d'image et un capteur infrarouge qui utilisent tous ladite composition photosensible. Cette composition photosensible comprend un absorbant dans l'infrarouge proche, un composé durcissable, un photo-initiateur et un absorbant d'ultraviolets, l'absorbant d'ultraviolets présentant un taux de réduction de masse d'au plus 5 % à 150 °C et un taux de réduction de masse d'au moins 40 % à 220 °C, tel que mesuré par thermogravimétrie.
(JA)矩形性が良好で、加熱収縮の抑制されたパターンを有する硬化膜を形成できる感光性組成物を提供する。また、前述の感光性組成物を用いた硬化膜、光学フィルタ、積層体、パターン形成方法、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサを提供する。この感光性組成物は、近赤外線吸収剤と、硬化性化合物と、光開始剤と、紫外線吸収剤とを含み、紫外線吸収剤は、熱重量測定において、150℃における質量減少率が5%以下であり、かつ、220℃における質量減少率が40%以上である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)