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1. (WO2018043185) COMPOSITION, FILM, FILTRE DE BLOCAGE PROCHE INFRAROUGE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, STRATIFIÉ, ÉLÉMENT D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS, DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGE, MODULE DE CAMÉRA ET CAPTEUR INFRAROUGE
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N° de publication :    WO/2018/043185    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/029832
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 22.08.2017
CIB :
G02B 5/22 (2006.01), G02F 1/1335 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/032 (2006.01), H01L 27/144 (2006.01), H01L 27/146 (2006.01), G02B 5/20 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : SAMEJIMA Suguru; (JP).
MATSUMURA Tokihiko; (JP).
ARIMURA Keisuke; (JP).
KITAJIMA Shunsuke; (JP)
Mandataire : SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-166802 29.08.2016 JP
2016-201807 13.10.2016 JP
2017-132541 06.07.2017 JP
Titre (EN) COMPOSITION, FILM, NEAR-INFRARED BLOCKING FILTER, PATTERN FORMING METHOD, LAMINATE, SOLID-STATE IMAGING ELEMENT, IMAGE DISPLAY DEVICE, CAMERA MODULE AND INFRARED SENSOR
(FR) COMPOSITION, FILM, FILTRE DE BLOCAGE PROCHE INFRAROUGE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, STRATIFIÉ, ÉLÉMENT D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS, DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGE, MODULE DE CAMÉRA ET CAPTEUR INFRAROUGE
(JA) 組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、パターン形成方法、積層体、固体撮像素子、画像表示装置、カメラモジュールおよび赤外線センサ
Abrégé : front page image
(EN)Provided are: a composition which is capable of forming a film that has excellent heat resistance and light resistance; a film; a near-infrared blocking filter; a pattern forming method; a laminate; a solid-state imaging element; an image display device; a camera module; and an infrared sensor. A composition which contains a near-infrared absorbing compound having a maximum absorption wavelength within the range of 650-1,000 nm, an organic solvent and a resin, and wherein: the near-infrared absorbing compound is at least one compound selected from among pyrrolopyrrole compounds, rylene compounds, oxonol compounds, squarylium compounds, croconium compounds, zinc phthalocyanine compounds, cobalt phthalocyanine compounds, vanadium phthalocyanine compounds, copper phthalocyanine compounds, magnesium phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, pyrylium compounds, azulenium compounds, indigo compounds and pyrromethene compounds; and the solubility in propylene glycol methyl ether acetate at 25°C is 0.01-30 mg/L.
(FR)L'invention concerne : une composition qui est capable de former un film qui a une excellente résistance à la chaleur et une excellente résistance à la lumière; un film; un filtre de blocage de proche infrarouge; un procédé de formation de motif; un stratifié; un élément d'imagerie à semi-conducteurs; un dispositif d'affichage d'image; un module de caméra; et un capteur infrarouge. Une composition qui contient un composé absorbant le proche infrarouge ayant une longueur d'onde d'absorption maximale dans la plage de 650 à 1000 nm, un solvant organique et une résine, le composé absorbant le proche infrarouge étant au moins un composé choisi parmi les composés pyrrolopyrrole, les composés rylène, les composés oxonol, les composés de squarylium, des composés de phtalocyanine de zinc, des composés de phtalocyanine de cobalt, des composés de phtalocyanine de vanadium, des composés de phtalocyanine de cuivre, des composés de phtalocyanine de magnésium, des composés de naphtalocyanine, des composés de pyrylium, des composés d'azulénium, des composés indigo et des composés pyrrométhène; et la solubilité dans l'acétate d'éther méthylique de propylène glycol à 25 °C est de 0,01 à 30 mg/L
(JA)耐熱性および耐光性に優れた膜を形成可能な組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、パターン形成方法、積層体、固体撮像素子、画像表示装置、カメラモジュールおよび赤外線センサを提供する。650~1000nmの範囲に極大吸収波長を有する近赤外線吸収化合物と有機溶剤と樹脂とを含み、近赤外線吸収化合物は、ピロロピロール化合物、リレン化合物、オキソノール化合物、スクアリリウム化合物、クロコニウム化合物、亜鉛フタロシアニン化合物、コバルトフタロシアニン化合物、バナジウムフタロシアニン化合物、銅フタロシアニン化合物、マグネシウムフタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、ピリリウム化合物、アズレニウム化合物、インジゴ化合物およびピロメテン化合物から選ばれる少なくとも1種であり、かつ、25℃のプロピレングリコールメチルエーテルアセテートに対する溶解度が0.01~30mg/Lである組成物。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)