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1. (WO2018043166) PROCÉDÉS DE PRODUCTION DE COMPOSÉS FLUOROÉTHERS
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N° de publication :    WO/2018/043166    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/029686
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 18.08.2017
CIB :
C08G 65/337 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP)
Inventeurs : HOSHINO Taiki; (JP).
AOYAMA Motoshi; (JP).
TAKAO Kiyotaka; (JP)
Mandataire : SENMYO Kenji; (JP).
OGAWA Toshiharu; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-167697 30.08.2016 JP
Titre (EN) PROCESSES FOR PRODUCING FLUOROETHER COMPOUNDS
(FR) PROCÉDÉS DE PRODUCTION DE COMPOSÉS FLUOROÉTHERS
(JA) 含フッ素エーテル化合物の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Processes for producing fluoroether compounds are provided by which fluoroether compounds capable of imparting excellent water and oil repellency, etc. to a surface of a base or to a hardcoat layer can be easily produced in high yield. One of the processes comprises reacting Rf(CF2)a-CF2OC(=O)Rf4 or Rf(CF2)a-C(=O)X1 with HN(-R1CH=CH2)2 to produce Rf(CF2)a-C(=O)N(-R1CH=CH2)2 as a desired substance. Another process comprises obtaining the desired substance and reacting the substance with HSiR2nL3-n to produce Rf(CF2)a-C(=O)N(-R1CH2CH2SiR2nL3-n)2. Rf is a linear, C2 or higher polyfluoroalkyl group having one or more etheric oxygen atoms between carbon atoms; Rf4 is a C1-30 perfluoroalkyl group, etc.; X1 is a halogen atom; R1 is an alkylene group; a is an integer of 1-5; R2 is a monovalent hydrocarbon group; L is a hydrolyzable group; and n is an integer of 0-2.
(FR)L'invention concerne des procédés de production de composés fluoroéthers, grâce auxquels il est possible de produire aisément avec un rendement élevé des composés fluoroéthers susceptibles de conférer un excellent caractère hydrophobe et oléophobe, etc., à une surface d'une base ou à une couche dure. L'un des procédés comprend la réaction du Rf(CF2)a-CF2OC(=O)Rf4 ou Rf(CF2)a-C(=O)X1 avec du HN(-R1CH=CH2)2 pour produire du Rf(CF2)a-C(=O)N(-R1CH=CH2)2 en tant que substance souhaitée. Un autre procédé comprend l'obtention de la substance souhaitée et la réaction de la substance avec du HSiR2 nL3-n pour produire du Rf(CF2)a-C(=O)N(-R1CH2CH2SiR2 nL3-n)2. Rf est un groupe polyfluoroalkyle en C2 ou supérieur, comportant un ou plusieurs atomes d'oxygène d'éther entre les atomes de carbone ; Rf4 est un groupe perfluoroalkyle en C1-30 etc. ; X1 est un atome d'halogène ; R1 est un groupe alkylène ; a est un entier de 1 à 5 ; R2 est un groupe hydrocarboné monovalent ; L est un groupe hydrolysable ; et n est un entier de 0 à 2.
(JA)基材の表面やハードコート層に優れた撥水撥油性等を付与できる含フッ素エーテル化合物を高収率で簡便に製造できる含フッ素エーテル化合物の製造方法の提供。 R(CF-CFOC(=O)Rf4またはR(CF-C(=O)XとHN(-RCH=CHとを反応させてR(CF-C(=O)N(-RCH=CHを製造する方法。および、前記目的物を得て、これとHSiR3-nとを反応させてR(CF-C(=O)N(-RCHCHSiR3-nを製造する方法。Rは炭素原子-炭素原子間にエーテル性酸素原子を1つ以上有する炭素数2以上で直鎖状のポリフルオロアルキル基、Rf4は炭素数1~30のペルフルオロアルキル基等、Xはハロゲン原子、Rはアルキレン基、aは1~5の整数、Rは1価の炭化水素基、Lは加水分解性基、nは0~2の整数である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)