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1. (WO2018043147) PROCÉDÉ DE CULTURE DE MICROALGUES PHOTOSYNTHÉTIQUES
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N° de publication :    WO/2018/043147    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/029514
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 17.08.2017
CIB :
C12N 1/12 (2006.01), C12P 7/26 (2006.01)
Déposants : SHOWA DENKO K.K. [JP/JP]; 13-9, Shibadaimon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058518 (JP)
Inventeurs : MATSUMOTO Yoko; (JP).
ISHIKURA Masaharu; (JP).
SUZUKI Hiroshi; (JP)
Mandataire : SSINPAT PATENT FIRM; Gotanda Yamazaki Bldg. 6F, 13-6, Nishigotanda 7-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1410031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-170926 01.09.2016 JP
Titre (EN) METHOD FOR CULTURING PHOTOSYNTHETIC MICROALGAE
(FR) PROCÉDÉ DE CULTURE DE MICROALGUES PHOTOSYNTHÉTIQUES
(JA) 光合成微細藻類の培養方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a method for culturing photosynthetic microalgae, with which it is possible to obtain xanthophyll more efficiently compared to conventional art. This culturing method comprises a step for subjecting, to light irradiation, encysted photosynthetic microalgae including 3-9 mass% of xanthophyll in terms of dry mass, wherein, in the step for performing said light irradiation, it is preferable to keep the content of xanthophyll in the photosynthetic microalgae to 2 mass% or higher in terms of dry mass. The step for performing said light irradiation preferably involves: (A) a step for increasing the number of cells by performing light irradiation (a); and (B) a step for increasing the content of xanthophyll in the photosynthetic microalgae by subjecting, to light irradiation (b), the photosynthetic microalgae that has undergone the step (A) for increasing the number of cells.
(FR)La présente invention concerne un procédé de culture de microalgues photosynthétiques, permettant d'obtenir de la xanthophylle de manière plus efficace par comparaison avec l'état de la technique. Ce procédé de culture comprend une étape destinée à soumettre, à une exposition à un rayonnement lumineux, des microalgues photosynthétiques enkystées comprenant de 3 à 9 % en masse de xanthophylle en termes de masse sèche. Lors de l'étape de mise en œuvre de ladite exposition à un rayonnement lumineux, il est préférable de maintenir la teneur en xanthophylle dans les microalgues photosynthétiques à une valeur supérieure ou égale à 2 % en masse en termes de masse sèche. L'étape de mise en œuvre de ladite exposition à un rayonnement lumineux comprend de préférence : (A) une étape destinée à augmenter le nombre de cellules en mettant en œuvre une exposition à un rayonnement lumineux (a); et (B) une étape destinée à augmenter la teneur en xanthophylle dans les microalgues photosynthétiques en soumettant, à une exposition à un rayonnement lumineux (b), les microalgues photosynthétiques qui ont subi l'étape (A) destinée à augmenter le nombre de cellules.
(JA)本発明は、従来よりも効率的にキサントフィルを得ることが可能な、光合成微細藻類の培養方法を提供する。本発明の培養方法は、キサントフィルを乾燥質量換算で3~9質量%含むシスト化した光合成微細藻類に光照射を行う工程を有し、前記光照射を行う工程において、光合成微細藻類のキサントフィル含有量を、乾燥質量換算で2質量%以上に保つことが好ましい。前記光照射を行う工程は、光照射(a)を行う細胞数増加工程(A)および、前記細胞数増加工程(A)が行われた光合成微細藻類に、光照射(b)を行う光合成微細藻類中のキサントフィル含有量を増加させる工程(B)から成ることが好ましい。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)