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1. (WO2018043046) SUBSTRAT À LIGNE FINE FONCTIONNELLE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE LIGNE FINE FONCTIONNELLE

Pub. No.:    WO/2018/043046    International Application No.:    PCT/JP2017/028604
Publication Date: Fri Mar 09 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Tue Aug 08 01:59:59 CEST 2017
IPC: B32B 3/14
B32B 27/36
H01B 5/14
H01B 13/00
H01L 51/50
H05B 33/02
H05B 33/10
H05B 33/22
H05B 33/26
H05B 33/28
H05K 3/24
Applicants: KONICA MINOLTA, INC.
コニカミノルタ株式会社
Inventors: YAMAUCHI Masayoshi
山内 正好
OHYA Hidenobu
大屋 秀信
OMATA Takenori
小俣 猛憲
NIIZUMA Naoto
新妻 直人
Title: SUBSTRAT À LIGNE FINE FONCTIONNELLE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE LIGNE FINE FONCTIONNELLE
Abstract:
La présente invention concerne un substrat doté d'une ligne fine fonctionnelle, et un procédé de formation d'une ligne fine fonctionnelle, dans lequel l'adhérence de la ligne fine fonctionnelle présente d'excellentes propriétés optiques. Le substrat à ligne fine fonctionnelle selon la présente invention présente, sur un substrat, une sous-couche comprenant une résine de polyester à modification hydrophobe, et présente, sur la sous-couche, une ligne fine fonctionnelle comprenant un dépôt de microparticules fonctionnelles et présentant une largeur de ligne de 1 à 10 µm. Dans le procédé de formation d'une ligne fine fonctionnelle selon la présente invention, une sous-couche comprenant une résine de polyester à modification hydrophobe est formée sur un substrat, et une ligne fine fonctionnelle comprenant un dépôt de microparticules fonctionnelles et présentant une largeur de ligne de 1 à 10 µm est ensuite formée sur la sous-couche.