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1. (WO2018043041) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE PLAQUE DE VERRE ÉQUIPÉE D'UN FILM MULTICOUCHE DIÉLECTRIQUE, ET PLAQUE DE VERRE ÉQUIPÉE D'UN FILM MULTICOUCHE DIÉLECTRIQUE

Pub. No.:    WO/2018/043041    International Application No.:    PCT/JP2017/028528
Publication Date: Fri Mar 09 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Tue Aug 08 01:59:59 CEST 2017
IPC: C03C 17/34
B32B 9/00
C23C 14/08
G02B 1/115
G02B 5/26
G02B 5/28
Applicants: NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD.
日本電気硝子株式会社
Inventors: SAHARA, Keiichi
佐原 啓一
IMAMURA, Tsutomu
今村 努
TANABE, Yasutaka
田邉 泰崇
Title: PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE PLAQUE DE VERRE ÉQUIPÉE D'UN FILM MULTICOUCHE DIÉLECTRIQUE, ET PLAQUE DE VERRE ÉQUIPÉE D'UN FILM MULTICOUCHE DIÉLECTRIQUE
Abstract:
La présente invention vise à fournir un procédé de fabrication d'une plaque de verre équipée d'un film multicouche diélectrique ayant une excellente résistance aux rayures. L'invention concerne par conséquent un procédé de fabrication d'une plaque de verre équipée d'un film multicouche diélectrique (1) comprenant une plaque de verre (2) et un film multicouche diélectrique (3) stratifié sur la plaque de verre. Le film multicouche diélectrique (3) a un premier film (4) en oxyde de silicium et un second film (5) en un matériau ayant un indice de réfraction supérieur à celui de l'oxyde de silicium. Le procédé de fabrication est caractérisé en ce qu'il comprend une étape de préparation de la plaque de verre (2), et une étape de dépôt du film multicouche diélectrique (3) sur la plaque de verre (2) par pulvérisation, et est caractérisé en ce que, lors du dépôt du premier film (4) par pulvérisation cathodique, la pression de dépôt pour le premier film 4 est de 0,4 Pa ou moins.