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1. (WO2018042916) COMPOSITION D'ENCRE POUR JET D'ENCRE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'IMAGE
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N° de publication :    WO/2018/042916    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/025986
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 18.07.2017
CIB :
C09D 11/30 (2014.01), B41J 2/01 (2006.01), B41M 5/00 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : SATO, Noriaki; (JP).
KOYAMA, Ichiro; (JP).
SUZUKI, Shota; (JP)
Mandataire : TAIYO, NAKAJIMA & KATO; 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-169840 31.08.2016 JP
2016-252732 27.12.2016 JP
Titre (EN) INK-JET INK COMPOSITION AND IMAGE FORMATION METHOD
(FR) COMPOSITION D'ENCRE POUR JET D'ENCRE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'IMAGE
(JA) インクジェットインク組成物及び画像形成方法
Abrégé : front page image
(EN)An ink-jet ink composition comprising water and particles which comprise a chain polymer comprising unit (1), unit (2), and a hydrophilic group and include a polymerizable group; and an image formation method. Cy1 and Cy2 each independently represent a C3-30 divalent organic group comprising a ring, Y1 and Y2 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, or the group -NR1- (R1 represents a hydrogen atom or a C1-10 hydrocarbon group), each *1 in unit (1) indicates the position of a bonding with another unit, and each *2 in unit (2) indicates the position of a bonding with another unit.
(FR)L'invention concerne une composition d'encre pour jet d'encre comprenant de l'eau et des particules qui comprennent une chaîne polymère comprenant un motif (1), un motif (2) et un groupe hydrophile et incluent un groupe polymérisable ; et un procédé de formation d'image. Cy1 et Cy2 représentent, chacun indépendamment, un groupe organique divalent en C3-30 comprenant un cycle, Y1 et Y2 représentent, chacun indépendamment, un atome d'oxygène, un atome de soufre ou le groupe -NR1- (R1 représente un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné en C1-10), chaque *1 dans le motif (1) indique la position d'une liaison avec un autre motif et chaque *2 dans le motif (2) indique la position d'une liaison avec un autre motif.
(JA)水と、単位(1)、単位(2)、及び親水性基を含む鎖状ポリマーを含み、重合性基を含む粒子と、を含有するインクジェットインク組成物及び画像形成方法。Cy及びCyは、それぞれ独立に、環を含む炭素数3~30の2価の有機基を表し、Y及びYは、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、又は-NR-基を表し、Rは、水素原子又は炭素数1~10の炭化水素基を表し、単位(1)中の*1は、単位(1)以外の単位との結合位置を表し、単位(2)中の*2は、単位(2)以外の単位との結合位置を表す。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)