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1. (WO2018042871) COMPOSÉ DE DIAZADIÉNYLE, MATIÈRE PREMIÈRE POUR LA FORMATION DE COUCHE MINCE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COUCHE MINCE
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N° de publication :    WO/2018/042871    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/024662
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 05.07.2017
CIB :
C07C 251/08 (2006.01), C23C 16/18 (2006.01), C07F 15/04 (2006.01)
Déposants : ADEKA CORPORATION [JP/JP]; 2-35, Higashiogu 7-chome, Arakawa-ku, Tokyo 1168554 (JP)
Inventeurs : YOSHINO, Tomoharu; (JP).
ENZU, Masaki; (JP).
NISHIDA, Akihiro; (JP).
YAMASHITA, Atsushi; (JP)
Mandataire : SOGA, Michiharu; (JP).
KAJINAMI, Jun; (JP).
OHYA, Kazuhiro; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-166588 29.08.2016 JP
Titre (EN) DIAZADIENYL COMPOUND, RAW MATERIAL FOR FORMING THIN FILM, AND METHOD FOR PRODUCING THIN FILM
(FR) COMPOSÉ DE DIAZADIÉNYLE, MATIÈRE PREMIÈRE POUR LA FORMATION DE COUCHE MINCE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COUCHE MINCE
(JA) ジアザジエニル化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A diazadienyl compound represented by general formula (I). In general formula (I), R1 represents a C1-6 linear or branched alkyl group, and M represents a nickel atom or manganese atom. In particular, a compound in which R1 in general formula (I) is a methyl group is suitable as a raw material for forming a thin film by CVD or ALD due to having high vapor pressure and high thermal decomposition onset temperature.
(FR)L'invention concerne un composé diazadiényle représenté par la formule générale (I). Dans la formule générale (I), R 1 représente un groupe alkyle linéaire ou ramifié en C1-6, et M représente un atome de nickel ou un atome de manganèse. En particulier, l'invention concerne un composé dans lequel R 1 dans la formule générale (I) est un groupe méthyle qui est approprié en tant que matière première pour former une couche mince par CVD ou ALD grâce à une pression de vapeur élevée et une température de départ de décomposition thermique élevée.
(JA)下記一般式(I)で表されるジアザジエニル化合物。上記一般式(I)において、R1は炭素数1~6の直鎖又は分岐状のアルキル基を表し、Mはニッケル原子又はマンガン原子を表す。特に、上記一般式(I)において、R1がメチル基である化合物は、蒸気圧が高く、熱分解開始温度が高いため、CVD法又はALD法による薄膜形成用原料に好適である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)