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1. (WO2018042743) DISPOSITIF D'INSPECTION DE SUBSTRAT, DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ D'INSPECTION DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT

Pub. No.:    WO/2018/042743    International Application No.:    PCT/JP2017/013870
Publication Date: Fri Mar 09 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Tue Apr 04 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01L 21/027
G01N 21/956
H01L 21/66
Applicants: SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
株式会社SCREENホールディングス
Inventors: KASHIYAMA, Masahito
柏山 真人
PIECZULEWSKI, Charles
ペチュレスキー チャー
MORITA, Akihiko
森田 彰彦
MATSUO, Tomohiro
松尾 友宏
Title: DISPOSITIF D'INSPECTION DE SUBSTRAT, DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ D'INSPECTION DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Abstract:
Un substrat W est maintenu par une unité de maintien rotative (252) de telle sorte que le substrat peut tourner. Des premières données d'image indiquant une image du substrat sont générées par capture, au moment de la réalisation d'une première capture d'image, de l'image du substrat au moyen d'une unité de capture d'image (1), ledit substrat étant maintenu par l'unité de maintien rotative. Après la réalisation de la première capture d'image, le substrat est tourné d'un angle prédéterminé au moyen de l'unité de maintien rotative. Des secondes données d'image indiquant une image du substrat sont générées par capture, au moment de la réalisation d'une seconde capture d'image après la rotation du substrat, de l'image du substrat au moyen de l'unité de capture d'image, ledit substrat étant maintenu par l'unité de maintien rotative. Sur la base des premières et secondes données d'image, il est déterminé s'il existe un défaut dans l'état de surface du substrat.