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1. (WO2018042743) DISPOSITIF D'INSPECTION DE SUBSTRAT, DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ D'INSPECTION DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
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N° de publication :    WO/2018/042743    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/013870
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 03.04.2017
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G01N 21/956 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
Déposants : SCREEN HOLDINGS CO., LTD. [JP/JP]; Tenjinkita-machi 1-1, Teranouchi-agaru 4-chome, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6028585 (JP)
Inventeurs : KASHIYAMA, Masahito; (JP).
PIECZULEWSKI, Charles; (JP).
MORITA, Akihiko; (JP).
MATSUO, Tomohiro; (JP)
Mandataire : FUKUSHIMA, Yoshito; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-172267 02.09.2016 JP
Titre (EN) SUBSTRATE INSPECTION DEVICE, SUBSTRATE TREATMENT DEVICE, SUBSTRATE INSPECTION METHOD, AND SUBSTRATE TREATMENT METHOD
(FR) DISPOSITIF D'INSPECTION DE SUBSTRAT, DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ D'INSPECTION DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板検査装置、基板処理装置、基板検査方法および基板処理方法
Abrégé : front page image
(EN)A substrate W is held by a rotating holding unit (252) such that the substrate can rotate. First image data indicating an image of the substrate is generated by picking up, at the time of performing first image pickup, the image of the substrate by means of an image pickup unit (1), said substrate being held by the rotating holding unit. After performing the first image pickup, the substrate is rotated by a predetermined angle by means of the rotating holding unit. Second image data indicating an image of the substrate is generated by picking up, at the time of performing second image pickup after rotating the substrate, the image of the substrate by means of the image pickup unit, said substrate being held by the rotating holding unit. On the basis of the first and second image data, whether there is a defective in the surface state of the substrate is determined.
(FR)Un substrat W est maintenu par une unité de maintien rotative (252) de telle sorte que le substrat peut tourner. Des premières données d'image indiquant une image du substrat sont générées par capture, au moment de la réalisation d'une première capture d'image, de l'image du substrat au moyen d'une unité de capture d'image (1), ledit substrat étant maintenu par l'unité de maintien rotative. Après la réalisation de la première capture d'image, le substrat est tourné d'un angle prédéterminé au moyen de l'unité de maintien rotative. Des secondes données d'image indiquant une image du substrat sont générées par capture, au moment de la réalisation d'une seconde capture d'image après la rotation du substrat, de l'image du substrat au moyen de l'unité de capture d'image, ledit substrat étant maintenu par l'unité de maintien rotative. Sur la base des premières et secondes données d'image, il est déterminé s'il existe un défaut dans l'état de surface du substrat.
(JA)回転保持部(252)により基板Wが回転可能に保持される。第1の撮像時に、前記回転保持部により保持された基板が撮像部(1)により撮像されることにより、基板の画像を示す第1の画像データが生成される。第1の撮像後に、前記回転保持部により予め定められた角度だけ基板が回転される。基板の回転後の第2の撮像時に、前記回転保持部により保持された基板が前記撮像部により撮像されることにより、基板の画像を示す第2の画像データが生成される。前記第1および前記第2の画像データに基づいて、基板の表面状態の欠陥の有無が判定される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)