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1. (WO2018042732) ÉLÉMENT DE JONCTION À EFFET TUNNEL MAGNÉTIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
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N° de publication :    WO/2018/042732    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/011263
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 21.03.2017
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    09.11.2017    
CIB :
H01L 43/12 (2006.01), H01L 21/8239 (2006.01), H01L 27/105 (2006.01), H01L 29/82 (2006.01), H01L 43/08 (2006.01), H01L 43/10 (2006.01)
Déposants : TOHOKU UNIVERSITY [JP/JP]; 1-1, Katahira 2-chome, Aoba-ku, Sendai-shi, Miyagi 9808577 (JP)
Inventeurs : HONJO, Hiroaki; (JP).
ENDOH, Tetsuo; (JP).
IKEDA, Shoji; (JP).
SATO, Hideo; (JP).
OHNO, Hideo; (JP)
Mandataire : PATENT CORPORATE BODY DAI-ICHI KOKUSAI TOKKYO JIMUSHO; 5-12, Iwamotocho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010032 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-166988 29.08.2016 JP
Titre (EN) MAGNETIC TUNNEL JUNCTION ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) ÉLÉMENT DE JONCTION À EFFET TUNNEL MAGNÉTIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 磁気トンネル接合素子およびその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)In order to provide a magnetic tunnel junction element having a higher TMR ratio and high heat resistance, and a method for manufacturing the magnetic tunnel junction element, at the time of constituting a magnetic tunnel junction element by laminating, in the following laminating order, a base layer formed of a metal material, a fixed layer, which is formed of a ferromagnetic body, and in which the magnetization direction is fixed, a magnetic coupling layer formed of a non-magnetic body, a reference layer, which is formed of a ferromagnetic body, and in which the magnetization direction is fixed, a barrier layer formed of a non-magnetic body, and a recording layer formed of a ferromagnetic body, alternatively, by laminating, in the following laminating order, a recording layer formed of a ferromagnetic body, a barrier layer formed of a non-magnetic body, a reference layer, which is formed of a ferromagnetic body, and in which the magnetization direction is fixed, a magnetic coupling layer formed of a non-magnetic body, a base layer formed of a metal material, and a fixed layer, which is formed of a ferromagnetic body, and in which the magnetization direction is fixed, the fixed layer is formed and laminated after plasma treating the surface of the base layer having been formed.
(FR)Selon la présente invention, afin de fournir un élément de jonction à effet tunnel magnétique ayant un rapport TMR supérieur et une résistance à la chaleur élevée, et un procédé de fabrication de l'élément de jonction à effet tunnel magnétique, au moment de la constitution d'un élément de jonction à effet tunnel magnétique par stratification, dans l'ordre de stratification suivant, d'une couche de base formée d'un matériau métallique, d'une couche fixe, qui est formée d'un corps ferromagnétique, et dans laquelle la direction de magnétisation est fixée, d'une couche de couplage magnétique formée d'un corps non magnétique, d'une couche de référence, qui est formée d'un corps ferromagnétique, et dans laquelle la direction de magnétisation est fixée, d'une couche barrière formée d'un corps non magnétique, et d'une couche d'enregistrement formée d'un corps ferromagnétique, en variante, par stratification, dans l'ordre de stratification suivant, d'une couche d'enregistrement formée d'un corps ferromagnétique, d'une couche barrière formée d'un corps non magnétique, d'une couche de référence, qui est formée d'un corps ferromagnétique, et dans laquelle la direction de magnétisation est fixée, d'une couche de couplage magnétique formée d'un corps non magnétique, d'une couche de base formée d'un matériau métallique, et d'une couche fixe, qui est formée d'un corps ferromagnétique, et dans laquelle la direction de magnétisation est fixée, la couche fixe est formée et stratifiée après que le plasma ait traité la surface de la couche de base ayant été formée.
(JA)よりTMR比が高く、耐熱性の高い磁気トンネル接合素子およびその製造方法を提供するために、積層順に、金属材料から成る下地層、強磁性体から成り磁化方向が固定である固定層、非磁性体から成る磁気結合層、強磁性体から成り磁化方向が固定である参照層、非磁性体から成る障壁層および強磁性体から成る記録層を積層して、または、積層順に、強磁性体から成る記録層、非磁性体から成る障壁層、強磁性体から成り磁化方向が固定である参照層、非磁性体から成る磁気結合層、金属材料から成る下地層および強磁性体から成り磁化方向が固定である固定層を積層して、磁気トンネル接合素子を構成するに際して、成膜した下地層の表面をプラズマトリートメントにした後に固定層を成膜して積層する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)