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1. (WO2018042732) ÉLÉMENT DE JONCTION À EFFET TUNNEL MAGNÉTIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION

Pub. No.:    WO/2018/042732    International Application No.:    PCT/JP2017/011263
Publication Date: Fri Mar 09 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Wed Mar 22 00:59:59 CET 2017
IPC: H01L 43/12
H01L 21/8239
H01L 27/105
H01L 29/82
H01L 43/08
H01L 43/10
Applicants: TOHOKU UNIVERSITY
国立大学法人東北大学
Inventors: HONJO, Hiroaki
本庄 弘明
ENDOH, Tetsuo
遠藤 哲郎
IKEDA, Shoji
池田 正二
SATO, Hideo
佐藤 英夫
OHNO, Hideo
大野 英男
Title: ÉLÉMENT DE JONCTION À EFFET TUNNEL MAGNÉTIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abstract:
Selon la présente invention, afin de fournir un élément de jonction à effet tunnel magnétique ayant un rapport TMR supérieur et une résistance à la chaleur élevée, et un procédé de fabrication de l'élément de jonction à effet tunnel magnétique, au moment de la constitution d'un élément de jonction à effet tunnel magnétique par stratification, dans l'ordre de stratification suivant, d'une couche de base formée d'un matériau métallique, d'une couche fixe, qui est formée d'un corps ferromagnétique, et dans laquelle la direction de magnétisation est fixée, d'une couche de couplage magnétique formée d'un corps non magnétique, d'une couche de référence, qui est formée d'un corps ferromagnétique, et dans laquelle la direction de magnétisation est fixée, d'une couche barrière formée d'un corps non magnétique, et d'une couche d'enregistrement formée d'un corps ferromagnétique, en variante, par stratification, dans l'ordre de stratification suivant, d'une couche d'enregistrement formée d'un corps ferromagnétique, d'une couche barrière formée d'un corps non magnétique, d'une couche de référence, qui est formée d'un corps ferromagnétique, et dans laquelle la direction de magnétisation est fixée, d'une couche de couplage magnétique formée d'un corps non magnétique, d'une couche de base formée d'un matériau métallique, et d'une couche fixe, qui est formée d'un corps ferromagnétique, et dans laquelle la direction de magnétisation est fixée, la couche fixe est formée et stratifiée après que le plasma ait traité la surface de la couche de base ayant été formée.