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1. (WO2018042120) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE PIÈCES
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N° de publication :    WO/2018/042120    N° de la demande internationale :    PCT/FR2017/052298
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 29.08.2017
CIB :
H01L 31/18 (2006.01), C23C 16/458 (2006.01), H01L 21/67 (2006.01), H01L 21/683 (2006.01), H01L 21/687 (2006.01)
Déposants : SEMCO TECHNOLOGIES [FR/FR]; 625 Rue de la Croix Verte Parc Euromedecine 34090 MONTPELLIER (FR)
Inventeurs : LAZZARELLI, Guy; (FR).
SEMMACHE, Bachir; (FR).
TRAN, Stéphanie; (FR)
Mandataire : CABINET BEAUMONT; 1 Rue Champollion 38000 GRENOBLE (FR)
Données relatives à la priorité :
1658054 30.08.2016 FR
Titre (EN) DEVICE FOR TREATING PARTS
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE PIÈCES
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a device (50) for treating semiconductor substrates (60), the device comprising an enclosure (52) and at least one circuit (68, 70) for feeding a gaseous mixture into the enclosure, the enclosure containing at least one support (54), the support comprising a stack of plates (58) on which the semiconductor substrates are supported, each plate having a substantially horizontal face on which at least one of the semiconductor substrates is supported, wherein at least one of the plates comprises at least one passage for the gaseous mixture between the substrate and the plate.
(FR)L'invention concerne un dispositif de traitement (50) de substrats semiconducteurs (60), le dispositif comprenant une enceinte (52) et au moins un circuit (68, 70) d'apport d'un mélange gazeux dans l'enceinte, l'enceinte contenant au moins un support (54), le support comprenant un empilement de plateaux (58) sur lesquels reposent les substrats semiconducteurs, chaque plateau ayant une face sensiblement horizontale sur laquelle repose au moins l'un des substrats semiconducteurs, dans lequel au moins l'un des plateaux comprend au moins un passage pour le mélange gazeux entre le substrat et le plateau.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)