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1. (WO2018041599) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
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N° de publication : WO/2018/041599 N° de la demande internationale : PCT/EP2017/070394
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 11.08.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
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Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
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Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
VAN DER MEULEN, Frits; NL
ARLEMARK, Erik, Johan; NL
COX, Hendrikus, Herman, Marie; NL
CUIJPERS, Martinus, Agnes, Willem; NL
DE HOOGH, Joost; NL
DE VRIES, Gosse, Charles; NL
DE WIT, Paul , Corné, Henri; NL
DERKS, Sander, Catharina, Reinier; NL
GIJZEN, Ronald, Cornelis, Gerardus; NL
HEMSCHOOTE, Dries, Vaast, Paul; NL
HOOGENDAM, Christiaan, Alexander; NL
KOEVOETS, Adrianus, Hendrik; NL
LAFARRE, Raymond, Wilhelmus, Louis; NL
LEROUX, Alain, Louis, Claude; NL
LIMPENS, Patrick, Willem, Paul; NL
OVERKAMP, Jim, Vincent; NL
VALENTIN, Christiaan, Louis; NL
VAN BERKEL, Koos; NL
VAN DER MEULEN, Stan, Henricus; NL
VAN DER SANDEN, Jacobus, Cornelis, Gerardus; NL
VAN DER SCHOOT, Harmen, Klaas; NL
VLES, David, Ferdinand; NL
WESTERHUIS, Evert, Auke, Rinze; NL
Mandataire :
FILIP, Diana; NL
Données relatives à la priorité :
16186956.502.09.2016EP
16192307.305.10.2016EP
17159789.108.03.2017EP
Titre (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS
(FR) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Abrégé :
(EN) A lithographic apparatus comprising a projection system configured to project a patterned radiation beam to form an exposure area on a substrate held on a substrate table, the lithographic apparatus further comprising a cooling apparatus for cooling the substrate, wherein the cooling apparatus comprises a cooling element located above the substrate table and adjacent to the exposure area, the cooling element being configured to remove heat from the substrate.
(FR) L'invention concerne un appareil lithographique comprenant un système de projection configuré pour projeter un faisceau de rayonnement à motif pour former une zone d'exposition sur un substrat maintenu sur une table de substrat, l'appareil lithographique comprenant en outre un appareil de refroidissement pour refroidir le substrat. L'appareil de refroidissement comprend un élément de refroidissement situé au-dessus de la table de substrat et adjacent à la zone d'exposition, l'élément de refroidissement étant configuré pour éliminer la chaleur du substrat.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)