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1. (WO2018041550) SÉLECTION AUTOMATIQUE DE RECETTES DE MESURE DE CIBLE DE MÉTROLOGIE
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N° de publication : WO/2018/041550 N° de la demande internationale : PCT/EP2017/069969
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 07.08.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 9/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
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Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
WANG, Daimian; US
ZHANG, Shengrui; NL
FAN, Chi-Hsiang; US
Mandataire :
PETERS, John; NL
Données relatives à la priorité :
62/382,77101.09.2016US
Titre (EN) AUTOMATIC SELECTION OF METROLOGY TARGET MEASUREMENT RECIPES
(FR) SÉLECTION AUTOMATIQUE DE RECETTES DE MESURE DE CIBLE DE MÉTROLOGIE
Abrégé :
(EN) A method including performing a first simulation for each of a plurality of different metrology target measurement recipes using a first model, selecting a first group of metrology target measurement recipes from the plurality of metrology target measurement recipes, the first group of metrology target measurement recipes satisfying a first rule, performing a second simulation for each of the metrology target measurement recipes from the first group using a second model, and selecting a second group of metrology target measurement recipes from the first group, the second group of metrology target measurement recipes satisfying a second rule, the first model being less accurate or faster than the second model and/or the first rule being less restrictive than the second rule.
(FR) Selon l'invention, un procédé consiste à réaliser une première simulation pour chaque recette d'une pluralité de recettes de mesure de cible de métrologie différentes grâce à un premier modèle, sélectionner un premier groupe de recettes de mesure de cible de métrologie parmi la pluralité de recettes de mesure de cible de métrologie, le premier groupe de recettes de mesure de cible de métrologie respectant une première règle, réaliser une deuxième simulation pour chacune des recettes de mesure de cible de métrologie provenant du premier groupe grâce à un deuxième modèle, et sélectionner un deuxième groupe de recettes de mesure de cible de métrologie dans le premier groupe, le deuxième groupe de recettes de mesure de cible de métrologie respectant une deuxième règle, le premier modèle étant moins précis ou plus rapide que le deuxième modèle et/ou la première règle étant moins restrictive que la deuxième règle.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)