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1. (WO2018040311) DISPOSITIF AYANT UN PHOTO-ALIGNEMENT AMÉLIORÉ DE PANNEAU DE VERRE MULTI-MODÈLE
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N° de publication :    WO/2018/040311    N° de la demande internationale :    PCT/CN2016/107092
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 24.11.2016
CIB :
G02F 1/1337 (2006.01)
Déposants : SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; No.9-2, Tangming Road, Guangming New District Shenzhen, Guangdong 518132 (CN)
Inventeurs : ZHAO, Li; (CN).
PENG, Bangyin; (CN)
Mandataire : YUHONG INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM; WU Dajian/LIU Hualian West Wing, Suite 713, One Junefield Plaza 6 Xuanwumenwai Street, Xicheng District Beijing 100052 (CN)
Données relatives à la priorité :
201610799793.7 31.08.2016 CN
Titre (EN) DEVICE HAVING ENHANCED PHOTO-ALIGNMENT OF MULTI-MODEL GLASS PANEL
(FR) DISPOSITIF AYANT UN PHOTO-ALIGNEMENT AMÉLIORÉ DE PANNEAU DE VERRE MULTI-MODÈLE
(ZH) 一种改善套切面板光配向性的装置
Abrégé : front page image
(EN)A device having enhanced photo-alignment of a multi-model glass panel comprises: a multi-model glass substrate (1), N rows of chips I (2), N rows of chips II (3), and a photomask (4). The N rows of chips I (2) and the N rows of chips II (3) are arranged alternately to form an alternate structure, and installed on the multi-model glass substrate (1). The area of the chips II (3) exceeds that of the chips I (2). The photomask (4) is used to cover the chips I (2) and the chips II (3) to enable ultraviolet light to irradiate via the photomask on the chips I (2) and the chips II (3), wherein N is a positive integer. As a result, the device having enhanced photo-alignment of a multi-model glass panel is applicable in the field of manufacturing thin-film transistor liquid crystal displays.
(FR)Un dispositif ayant un photo-alignement amélioré d'un panneau de verre multi-modèle comprend : un substrat de verre multi-modèle (1), N rangées de puces I (2), N rangées de puces II (3), et un photomasque (4). Les N rangées de puces I (2) et les N rangées de puces II (3) sont disposées en alternance pour former une structure alternée, et installées sur le substrat de verre multi-modèle (1). La surface des puces II (3) dépasse celle des puces I (2). Le photomasque (4) est utilisé pour recouvrir les puces I (2) et les puces II (3) pour permettre à la lumière ultraviolette d'irradier par l'intermédiaire du photomasque sur les puces I (2) et les puces II (3), N étant un nombre entier positif. Par conséquent, le dispositif ayant un photo-alignement amélioré d'un panneau de verre multi-modèle est applicable dans le domaine de la fabrication d'écrans à cristaux liquides à transistors en couches minces.
(ZH)一种改善套切面板光配向性的装置,其包括套切基板(1)、N列芯片一(2)、N列芯片二(3),还包括光罩(4); N列芯片一(2)和N列芯片二(3)交替依次排列形成交替排列结构,安装在套切基板(1)上;芯片二(3)的面积大于芯片一(2)的面积;光罩(4)用于罩住N列芯片一(2)和N列芯片二(3),使紫外光透过光罩照射N列芯片一(2)和N列芯片二(3);其中,N为正整数。因此,改善套切面板光配向的装置可用于薄膜晶体管液晶显示的制造领域。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)