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1. (WO2018039537) SURVEILLANCE DE L'ÉPAISSEUR D'UN TAMPON À POLIR POUR POLISSAGE CHIMICO-MÉCANIQUE

Pub. No.:    WO/2018/039537    International Application No.:    PCT/US2017/048572
Publication Date: Fri Mar 02 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Sat Aug 26 01:59:59 CEST 2017
IPC: B24B 37/005
B24B 49/10
B24B 49/12
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC.
Inventors: ZHANG, Jimin
WANG, Zhihong
LEE, Harry Q.
BROWN, Brian J.
TU, Wen-Chiang
MCCLINTOCK, William H.
LU, Wei
Title: SURVEILLANCE DE L'ÉPAISSEUR D'UN TAMPON À POLIR POUR POLISSAGE CHIMICO-MÉCANIQUE
Abstract:
L'invention concerne un appareil de polissage chimico-mécanique comprenant une platine présentant une surface destinée à supporter un tampon à polir, une tête de support destinée à maintenir un substrat contre une surface de polissage du tampon à polir, un conditionneur de tampon comprenant un corps conducteur destiné à être pressé contre la surface de polissage, un système de surveillance d'épaisseur de tampon à polir in situ comprenant un capteur disposé dans la platine pour générer un champ magnétique qui passe à travers le tampon à polir, et un organe de commande configuré pour recevoir un signal du système de surveillance et générer une mesure de l'épaisseur du tampon à polir sur la base d'une partie du signal correspondant au moment où le capteur se trouve au-dessous du corps conducteur du conditionneur de tampon.