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1. (WO2018038885) COMPOSITION DE PÂTE ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE SÉLECTIF À LA SILICE
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N° de publication : WO/2018/038885 N° de la demande internationale : PCT/US2017/045066
Date de publication : 01.03.2018 Date de dépôt international : 02.08.2017
CIB :
C09G 1/02 (2006.01) ,C09K 3/14 (2006.01) ,B24B 1/00 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
G
COMPOSITIONS DE PRODUITS À POLIR AUTRES QUE LE VERNIS À L'ALCOOL; FARTS
1
Compositions de produits à polir
02
contenant des abrasifs ou agents de polissage
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
K
SUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
3
Substances non couvertes ailleurs
14
Substances antidérapantes; Abrasifs
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
24
MEULAGE; POLISSAGE
B
MACHINES, DISPOSITIFS OU PROCÉDÉS POUR MEULER OU POUR POLIR; DRESSAGE OU REMISE EN ÉTAT DES SURFACES ABRASIVES; ALIMENTATION DES MACHINES EN MATÉRIAUX DE MEULAGE, DE POLISSAGE OU DE RODAGE
1
Procédés de meulage ou de polissage; Utilisation d'équipements auxiliaires en relation avec ces procédés
Déposants :
FERRO CORPORATION [US/US]; 6060 Parkland Boulevard Suite 350 Mayfield Heights, OH 44124, US
Inventeurs :
URBAN, Nathaniel, D.; US
Mandataire :
KORFF, Christopher, J.; Rankin, Hill & Clark LLP 23755 Lorain Road, Suite 200 North Olmsted, Ohio 44070, US
Données relatives à la priorité :
62/379,91626.08.2016US
Titre (EN) SLURRY COMPOSITION AND METHOD OF SELECTIVE SILICA POLISHING
(FR) COMPOSITION DE PÂTE ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE SÉLECTIF À LA SILICE
Abrégé :
(EN) An acidic slurry composition for use in chemical-mechanical polishing including an acid pH adjuster and a cationic polishing suppressant comprising a quaternized aromatic heterocycle. The quaternized aromatic heterocycle imparts a polishing selectivity of silica over crystalline silicon of at least 100.
(FR) L'invention concerne une composition de pâte acide destinée à être utilisée dans un polissage chimico-mécanique comprenant un agent d'ajustement du pH acide et un agent d'extinction de polissage cationique comprenant un hétérocycle aromatique quaternisé. L'hétérocycle aromatique quaternisé confère une sélectivité de polissage de la silice sur du silicium cristallin d'au moins 100.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)