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1. (WO2018038209) ANTENNE À BALAYAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ANTENNE À BALAYAGE
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N° de publication :    WO/2018/038209    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/030343
Date de publication : 01.03.2018 Date de dépôt international : 24.08.2017
CIB :
H01Q 3/34 (2006.01), G02F 1/13 (2006.01), G02F 1/1337 (2006.01), G02F 1/1341 (2006.01), G02F 1/1368 (2006.01), H01L 29/786 (2006.01), H01Q 3/44 (2006.01), H01Q 13/22 (2006.01), H01Q 21/06 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522 (JP)
Inventeurs : ASAGI Hiroaki; (--).
MIYAKE Isamu; (--)
Mandataire : OKUDA Seiji; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-165706 26.08.2016 JP
Titre (EN) SCANNING ANTENNA AND METHOD OF MANUFACTURING SCANNING ANTENNA
(FR) ANTENNE À BALAYAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ANTENNE À BALAYAGE
(JA) 走査アンテナおよび走査アンテナの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A scanning antenna (1000) is a scanning antenna in which antenna units (U) are arranged, and comprises: a TFT substrate (101A) including a first dielectric substrate (1), a TFT, a gate bus line, a source bus line, patch electrodes (15), and a first alignment film (32A) covering the patch electrodes; a slot substrate (201A) including a second dielectric substrate (51), a slot electrode (55), and a second alignment film (42A) covering the slot electrodes; a liquid crystal layer (LC) provided between the TFT substrate and the slot substrate; and a reflecting conductor plate (65). The slot electrode includes slots (57) positioned corresponding to each of the patch electrodes. A seal portion includes a main seal portion (73a) demarcating at least one injection opening (74a). With respect to the injection opening, if a direction from the injection opening toward the liquid crystal layer, from among directions orthogonal to a seal pattern of the main seal portion in the injection opening, is defined as a flow direction (Df), and a region of the liquid crystal layer in the vicinity of the injection opening, which is a region that includes a region extending in the flow direction from the injection opening, is defined as a first region (Rf1), then angles between the flow direction and each of an alignment direction defined by the first alignment film in the first region, and an alignment direction defined by the second alignment film in the first region are each at most equal to 20º or at least equal to 160º.
(FR)Antenne à balayage (1000) se composant d'une antenne à balayage présentant un agencement d'unités d'antenne (U) et comprenant : un substrat de transistor TFT (101A) comprenant un premier substrat diélectrique (1), un transistor TFT, une ligne de bus de grille, une ligne de bus de source, des électrodes patch (15), et un premier film d'orientation (32A) recouvrant les électrodes patch; un substrat à fentes (201A) comprenant un second substrat diélectrique (51), une électrode à fentes (55), et un second film d'orientation (42A) recouvrant les électrodes à fentes; une couche de cristaux liquides (LC) disposée entre le substrat de transistor TFT et le substrat à fentes; et une plaque conductrice réfléchissante (65). L'électrode à fentes comprend des fentes (57) disposées en correspondance avec chacune des électrodes patch. Une partie joint d'étanchéité comprend une partie joint d'étanchéité principale (73a) délimitant au moins une ouverture d'injection (74a). Par rapport à l'ouverture d'injection, si une direction de l'ouverture d'injection à la couche de cristaux liquides comprise dans les directions orthogonales à la forme du joint d'étanchéité principal dans l'ouverture d'injection est définie comme direction d'écoulement (Df), et une région de la couche de cristaux liquides au voisinage de l'ouverture d'injection, qui englobe la région s'étendant dans la direction d'écoulement à partir de l'ouverture d'injection, est définie comme une première région (Rf1), alors les angles entre la direction d'écoulement et chacune d'une direction d'alignement définie par le premier film d'orientation dans la première région, et d'une direction d'alignement définie par le second film d'orientation dans la première région sont chacun au plus égal à 20° ou au moins égal à 160°.
(JA)走査アンテナ(1000)は、アンテナ単位(U)が配列された走査アンテナであって、第1誘電体基板(1)と、TFTと、ゲートバスラインと、ソースバスラインと、パッチ電極(15)と、パッチ電極を覆う第1配向膜(32A)とを有するTFT基板(101A)と、第2誘電体基板(51)と、スロット電極(55)と、スロット電極を覆う第2配向膜(42A)とを有するスロット基板(201A)と、TFT基板とスロット基板との間に設けられた液晶層(LC)と、反射導電板(65)とを有する。スロット電極は、パッチ電極にそれぞれ対応して配置されたスロット(57)を有する。シール部は、少なくとも1つの注入口(74a)を画定するメインシール部(73a)を含む。注入口について、注入口においてメインシール部のシールパターンと直交する方向のうち、注入口から液晶層に向かう方向を流動方向(Df)とし、液晶層のうち、注入口に近接する領域であって、注入口から流動方向に延びる領域を含む領域を第1領域(Rf1)とするとき、第1領域において第1配向膜によって規定される配向方位および第1領域において第2配向膜によって規定される配向方位のそれぞれと、流動方向とがなす角は、20°以下または160°以上である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)