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1. (WO2018038016) COMPOSITION DE MATÉRIAU D'ETANCHÉITE, CELLULE À CRISTAUX LIQUIDES, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE CELLULE À CRISTAUX LIQUIDES
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N° de publication : WO/2018/038016 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/029631
Date de publication : 01.03.2018 Date de dépôt international : 18.08.2017
CIB :
C09K 3/10 (2006.01) ,C08F 2/50 (2006.01) ,G02F 1/13 (2006.01) ,G02F 1/1339 (2006.01) ,G02F 1/1343 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA[JP/JP]; 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
Inventeurs : MIZUSAKI Masanobu; --
OHTAKE Tadashi; --
Mandataire : AKATSUKI UNION PATENT FIRM; 5th Floor, Nittochi Nagoya Bldg., 1-1, Sakae 2-chome, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600008, JP
Données relatives à la priorité :
2016-16559726.08.2016JP
Titre (EN) SEAL MATERIAL COMPOSITION, LIQUID CRYSTAL CELL, AND METHOD FOR PRODUCING LIQUID CRYSTAL CELL
(FR) COMPOSITION DE MATÉRIAU D'ETANCHÉITE, CELLULE À CRISTAUX LIQUIDES, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE CELLULE À CRISTAUX LIQUIDES
(JA) シール材組成物、液晶セル、及び液晶セルの製造方法
Abrégé : front page image
(EN) Provided is, for example, a seal material composition that suppresses a reduction in voltage retention rate in a liquid crystal cell employed in a scanning antenna, etc. This seal material composition comprises: a photoradical polymerization initiator that generates radicals when irradiated with light having a wavelength of 450 nm or longer; and a polymerizable component including a polymerizable functional group that is polymerizable by employing the radicals.
(FR) L'invention concerne par exemple une composition de matériau d'étanchéité qui supprime une réduction du taux de rétention de tension dans une cellule à cristaux liquides utilisée dans une antenne de balayage, etc. Cette composition de matériau d'étanchéité comprend : un amorceur de polymérisation photoradicalaire qui produit des radicaux après exposition à une lumière ayant une longueur d'onde de 450 nm ou plus; et un constituant polymérisable contenant un groupe fonctionnel polymérisable qui est polymérisable par utilisation des radicaux.
(JA) 走査アンテナ等に利用される液晶セルにおいて電圧保持率の低下を抑制するシール材組成物等を提供するために、本発明のシール材組成物は、450nm以上の波長を有する光が照射されるとラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤と、ラジカルを利用して重合可能な重合性官能基を含む重合成分とを備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)