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1. (WO2018037921) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM

Pub. No.:    WO/2018/037921    International Application No.:    PCT/JP2017/028964
Publication Date: Fri Mar 02 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Thu Aug 10 01:59:59 CEST 2017
IPC: B05C 11/00
B05C 5/00
B05C 11/10
B05D 1/26
B05D 1/36
B05D 3/00
G01B 11/24
G01N 21/956
Applicants: SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD.
住友重機械工業株式会社
Inventors: OKAMOTO, Yuji
岡本 裕司
Title: DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM
Abstract:
L'invention concerne une unité de formation de film appliquant un matériau de film sur un substrat pour former un film. Un dispositif d'imagerie forme une image de la surface du substrat disposé dans l'unité de formation de film. Une unité de commande commande l'unité de formation de film. L'unité de commande a, stockée dans celle-ci, des données de motif définissant la forme plane du film à former. Avant la formation du film sur la base des données de motif, l'unité de commande forme un motif d'évaluation en amenant le matériau de film à être déchargé sur une partie à l'intérieur d'une zone où le matériau de film doit être appliqué afin de former le film. La qualité de l'état de surface du substrat est déterminée sur la base d'une image du motif d'évaluation capturée par le dispositif d'imagerie et un traitement différent est exécuté sur la base du résultat de détermination.