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1. (WO2018037799) PROCÉDÉ DE GRAVURE AU PLASMA

Pub. No.:    WO/2018/037799    International Application No.:    PCT/JP2017/026553
Publication Date: Fri Mar 02 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Sat Jul 22 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01L 21/3065
Applicants: ZEON CORPORATION
日本ゼオン株式会社
Inventors: SAKURAI Takaaki
櫻井 隆覚
INUI Hirotoshi
乾 裕俊
Title: PROCÉDÉ DE GRAVURE AU PLASMA
Abstract:
La présente invention concerne un procédé de gravure par plasma pour graver un stratifié multicouche obtenu par stratification d'un film d'oxyde de silicium et d'un film de nitrure de silicium, le procédé de gravure au plasma comprenant une étape de gravure dans laquelle un gaz d'un composé de fluorocarbone contenant du brome représenté par la formule de composition C3H2BrF3 et un gaz d'un fluorocarbone qui ne contient pas de brome sont utilisés ensemble, et une gravure au plasma est effectuée sur le film d'oxyde de silicium et le film de nitrure de silicium.