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1. (WO2018037763) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT, FILM SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIFS ÉLECTRONIQUES, COMPOSÉ ET RÉSINE
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N° de publication : WO/2018/037763 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/025775
Date de publication : 01.03.2018 Date de dépôt international : 14.07.2017
CIB :
G03F 7/039 (2006.01) ,C08F 20/26 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
039
Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
20
Homopolymères ou copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et un seul étant terminé par un seul radical carboxyle ou un sel, anhydride, ester, amide, imide ou nitrile
02
Acides monocarboxyliques contenant moins de dix atomes de carbone; Leurs dérivés
10
Esters
26
Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Inventeurs :
▲高▼田 暁 TAKADA Akira; JP
西尾 亮 NISHIO Ryo; JP
後藤 研由 GOTO Akiyoshi; JP
白川 三千紘 SHIRAKAWA Michihiro; JP
丹呉 直紘 TANGO Naohiro; JP
丸茂 和博 MARUMO Kazuhiro; JP
崎田 享平 SAKITA Kyohei; JP
Mandataire :
中島 順子 NAKASHIMA Junko; JP
米倉 潤造 YONEKURA Junzo; JP
村上 泰規 MURAKAMI Yasunori; JP
Données relatives à la priorité :
2016-16625726.08.2016JP
2016-17709909.09.2016JP
2016-25013122.12.2016JP
2017-02939720.02.2017JP
Titre (EN) ACTIVE LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTIVE LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, PATTERN-FORMING METHOD, METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICES, COMPOUND, AND RESIN
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT, FILM SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIFS ÉLECTRONIQUES, COMPOSÉ ET RÉSINE
(JA) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、化合物、及び、樹脂
Abrégé :
(EN) Provided is an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, etc. that, even when the exposure scan rate is ultra high, has a high follow-up performance of the immersion liquid and can reduce scum and development defects. The active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a resin (C) having a repeat unit represented by general formula (1). The pattern-forming method includes a step for forming a film using the active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and the method for producing electronic devices includes the pattern-forming method. In general formula (1), Z represents a halogen atom, a group represented by R11OCH2-, or a group represented by R12OC(=O)CH2-. R11 and R12 represent monovalent substituents. X represents an oxygen atom or sulfur atom. L represents an (n + 1)-valent linking group. R represents a group that is decomposed by the action of an alkali developer, thereby increasing the solubility thereof in the alkali developer. n represents a positive integer.
(FR) L'invention concerne une composition de résine sensible à la lumière active ou sensible au rayonnement, etc. qui, même lorsque le taux de balayage d'exposition est extrêmement élevé, a une performance de suivi élevée du liquide d'immersion et peut réduire les défauts d'écume et de développement. La composition de résine sensible à la lumière active ou sensible au rayonnement contient une résine (C) ayant une unité de répétition représentée par la formule générale (1). Le procédé de formation de motif comprend une étape consistant à former un film à l'aide de la composition de résine sensible à la lumière active ou sensible au rayonnement, et le procédé de production de dispositifs électroniques comprend le procédé de formation de motif. Dans la formule générale (1), Z représente un atome d'halogène, un groupe représenté par R11OCH2-, ou un groupe représenté par R12OC(= O)CH 2-. R11 et R12 représentent des substituants monovalents. X représente un atome d'oxygène ou un atome de soufre. L représente un groupe de liaison (n + 1)-valent. R représente un groupe qui est décomposé sous l'action d'un révélateur alcalin, ce qui augmente sa solubilité dans le révélateur alcalin. n est un nombre entier positif.
(JA) 露光のスキャン速度を超高速としても、液浸液の高い追従性を有し、スカムと現像欠陥を低減可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物等を提供する。感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、一般式(1)で表される繰り返し単位を有する樹脂(C)を含有する。パターン形成方法は、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物により膜を形成する工程を含み、電子デバイスの製造方法は、パターン形成方法を含む。 一般式(1)中、Zは、ハロゲン原子、R11OCH-で表される基、又は、R12OC(=O)CH-で表される基を表す。R11及びR12は1価の置換基を表す。Xは、酸素原子、又は、硫黄原子を表す。Lは、(n+1)価の連結基を表す。Rは、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する基を有する基を表す。nは正の整数を表す。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)