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1. (WO2018037691) PROCÉDÉ DE REVÊTEMENT, DISPOSITIF DE REVÊTEMENT ET SUPPORT DE STOCKAGE
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N° de publication :    WO/2018/037691    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/022836
Date de publication : 01.03.2018 Date de dépôt international : 21.06.2017
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), B05C 11/08 (2006.01), B05D 1/40 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP)
Inventeurs : GOTO, Hirofumi; (JP).
KUBOTA, Minoru; (JP).
KYOUDA, Hideharu; (JP)
Mandataire : YAYOY PATENT OFFICE; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-161900 22.08.2016 JP
Titre (EN) COATING METHOD, COATING DEVICE, AND STORAGE MEDIUM
(FR) PROCÉDÉ DE REVÊTEMENT, DISPOSITIF DE REVÊTEMENT ET SUPPORT DE STOCKAGE
(JA) 塗布方法、塗布装置及び記憶媒体
Abrégé : front page image
(EN)[Problem] To more reliably suppress a coating film defect by removing particles in a short time when a wafer is to be coated with coating liquid. [Solution] Before a coating liquid 102 is supplied to a wafer W loaded into a coating device, thinner 100 is supplied, a surface of the wafer W is wetted, and then the surface of the wafer W is dried. In this way, the flow of particles 101 on the surface of the wafer W is facilitated. Due to the drying of the surface of the wafer W, when the thinner 100 is subsequently supplied to the surface of the wafer W, the cross section of the gas-liquid interface of a liquid accumulation of thinner becomes rounded, making it possible to push the particles 101 with greater force and to more reliably remove the particles 101 in a short time. Accordingly, when the wafer W is subsequently coated with the coating liquid 102, the formation of comet-shaped mottling on a SOC film due to the attachment of the particles 101 can be suppressed.
(FR)[Problème] Supprimer de façon plus fiable un défaut de film de revêtement en éliminant des particules en un temps court lorsqu’une tranche doit être revêtue avec un liquide de revêtement. [Solution] Selon la présente invention, avant qu’un liquide de revêtement 102 soit distribué vers une tranche W chargée dans un dispositif de revêtement, un diluant 100 est fourni, une surface de la tranche W est mouillée, puis la surface de la tranche W est séchée. De cette manière, l’écoulement de particules 101 sur la surface de la tranche W est facilité. En raison du séchage de la surface de la tranche W, lorsque le diluant 100 est ensuite distribué sur la surface de la tranche W, la section transversale de l’interface gaz-liquide d’une accumulation liquide de diluant devient arrondie, ce qui permet de pousser les particules 101 avec une plus grande force et d’enlever de façon plus fiable les particules 101 dans un temps court. En conséquence, lorsque la tranche W est ensuite enduite avec le liquide de revêtement 102, la formation de marbrure en forme de comète sur un film SOC due à la fixation des particules 101 peut être supprimée.
(JA)【課題】ウエハに塗布液を塗布するにあたって、短時間でパーティクルの除去を行い塗布膜の不良をより確実に抑制すること。 【解決手段】塗布装置に搬入されたウエハWに塗布液102を供給する前に、まずシンナー100を供給し、ウエハWの表面を濡らし、次いでウエハWの表面を乾燥させている。これによりウエハWの表面のパーティクル101が流れやすくなる。またウエハWの表面が乾燥することで、続いてウエハWの表面をシンナー100を供給したときにシンナーの液溜まりの気液界面の断面が丸まり、パーティクル101を大きな力で押すことができるため、パーティクル101を短時間でより確実に除去することができる。従って、その後ウエハWに塗布液102を塗布したときにパーティクル101の付着に起因するSOC膜へのコメット斑の形成を抑制することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)