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1. (WO2018037610) DISPOSITIF DE VARIATION DE LA TEMPÉRATURE ET PROCÉDÉ DE VARIATION DE LA TEMPÉRATURE
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N° de publication : WO/2018/037610 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/013016
Date de publication : 01.03.2018 Date de dépôt international : 29.03.2017
CIB :
G01N 25/00 (2006.01) ,F27B 17/00 (2006.01) ,F27D 7/06 (2006.01) ,G01R 31/26 (2014.01) ,H01L 21/66 (2006.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
25
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens thermiques
F MÉCANIQUE; ÉCLAIRAGE; CHAUFFAGE; ARMEMENT; SAUTAGE
27
FOURS; CORNUES DE DISTILLATION
B
FOURS OU CORNUES DE DISTILLATION, EN GÉNÉRAL; APPAREILS DE FRITTAGE À CIEL OUVERT OU APPAREILS ANALOGUES
17
Fours d'un genre non couvert par l'un des groupes F27B1/-F27B15/102
F MÉCANIQUE; ÉCLAIRAGE; CHAUFFAGE; ARMEMENT; SAUTAGE
27
FOURS; CORNUES DE DISTILLATION
D
PARTIES CONSTITUTIVES, AMÉNAGEMENTS, ACCESSOIRES DES FOURS OU DES CORNUES, DANS LA MESURE OÙ ILS SONT COMMUNS À PLUS D'UN TYPE DE FOUR
7
Production, entretien ou circulation d'une atmosphère dans les chambres de chauffage
06
Production ou maintien d'une atmosphère particulière ou du vide dans les chambres de chauffage
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
R
MESURE DES VARIABLES ÉLECTRIQUES; MESURE DES VARIABLES MAGNÉTIQUES
31
Dispositions pour vérifier les propriétés électriques; Dispositions pour la localisation des pannes électriques; Dispositions pour l'essai électrique caractérisées par ce qui est testé, non prévues ailleurs
26
Essai de dispositifs individuels à semi-conducteurs
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
66
Essai ou mesure durant la fabrication ou le traitement
Déposants :
株式会社九州日昌 KYUSHU NISSHO CO., LTD. [JP/JP]; 福岡県北九州市若松区南二島2丁目6番7号 6-7, Minamifutajima 2-chome, Wakamatsu-ku, Kitakyushu-city Fukuoka 8080109, JP
Inventeurs :
李 乙松 LI Yisong; JP
上川 敬二 KAMIKAWA Keiji; JP
Mandataire :
藤本 健司 FUJIMOTO Kenji; JP
Données relatives à la priorité :
2016-16201922.08.2016JP
Titre (EN) TEMPERATURE VARYING DEVICE AND TEMPERATURE VARYING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE VARIATION DE LA TEMPÉRATURE ET PROCÉDÉ DE VARIATION DE LA TEMPÉRATURE
(JA) 変温処理装置および変温処理方法
Abrégé :
(EN) This temperature varying device has exceptional temperature distribution uniformity and cleanliness stability and is suitable for temperature cycling. The temperature varying device has a housing (10) that demarcates a closed space (10a) that is cut off from outside air and a high-temperature stage (30) and low-temperature stage (40) provided in the closed space (10a). The high-temperature stage (30) carries out temperature adjustment such that a temperature-adjusted surface (31) is kept at a first target temperature, and the low-temperature stage (40) carries out temperature adjustment such that a temperature-adjusted surface (41) is kept at a second target temperature lower than the first target temperature. The temperature varying device is further provided with a movement mechanism (50) for moving an object under test between a processing position at which the object under test is in contact with or opposes the temperature-adjusted surface of the high-temperature stage (30) and a processing position at which the object under test is in contact with or opposes the temperature-adjusted surface (41) of the low-temperature stage (40).
(FR) La présente invention concerne un dispositif de variation de la température qui présente une uniformité de distribution de température et une stabilité de propreté exceptionnelles et est approprié pour un cyclage de température. Le dispositif de variation de la température comprend un boîtier (10) qui délimite un espace fermé (10a) qui est coupé de l'air extérieur, ainsi qu'un étage à haute température (30) et un étage à basse température (40) disposés dans l'espace fermé (10a). L'étage à haute température (30) effectue un ajustement de température de telle sorte qu'une surface à température ajustée (31) est maintenue à une première température cible, et l'étage à basse température (40) effectue un ajustement de température de telle sorte qu'une surface à température ajustée (41) est maintenue à une seconde température cible inférieure à la première température cible. Le dispositif de variation de température est en outre pourvu d'un mécanisme de déplacement (50) pour déplacer un objet en cours de test d'une position de traitement au niveau de laquelle l'objet à tester est en contact avec, ou s'oppose à, la surface à température ajustée de l'étage à haute température (30) à une position de traitement au niveau de laquelle l'objet en cours de test est en contact avec, ou s'oppose à, la surface à température ajustée (41) de l'étage à basse température (40).
(JA) 温度分布の均一性及びクリーン度の安定性に優れ、温度サイクル試験に適した変温処理装置であって、外気と遮断された閉空間(10a)を画定する筐体(10)と、閉空間(10a)内に設けられた高温ステージ(30)および低温ステージ(40)と、を有し、高温ステージ(30)は被温調面(31)が第1の目標温度に維持されるように温調し、低温ステージ(40)は、被温調面(41)が第1の目標温度よりも低い第2の目標温度に維持されるように温調し、試験体が高温ステージ(30)の被温調面に接触し又は対向する処理位置と、試験体が低温ステージ(40)の被温調面(41)に接触し又は対向する処理位置との間で試験体を移動させる移動機構(50)をさらに有する、変温処理装置。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)