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1. (WO2018036828) APPAREIL DE MÉTROLOGIE PERMETTANT DE MESURER UNE STRUCTURE FORMÉE SUR UN SUBSTRAT PAR UN PROCÉDÉ LITHOGRAPHIQUE, SYSTÈME LITHOGRAPHIQUE, ET PROCÉDÉ DE MESURE D'UNE STRUCTURE FORMÉE SUR UN SUBSTRAT PAR UN PROCÉDÉ LITHOGRAPHIQUE

Pub. No.:    WO/2018/036828    International Application No.:    PCT/EP2017/070302
Publication Date: Fri Mar 02 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Fri Aug 11 01:59:59 CEST 2017
IPC: G03F 7/20
G01N 21/47
G01N 21/95
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V.
Inventors: PANDEY, Nitesh
Title: APPAREIL DE MÉTROLOGIE PERMETTANT DE MESURER UNE STRUCTURE FORMÉE SUR UN SUBSTRAT PAR UN PROCÉDÉ LITHOGRAPHIQUE, SYSTÈME LITHOGRAPHIQUE, ET PROCÉDÉ DE MESURE D'UNE STRUCTURE FORMÉE SUR UN SUBSTRAT PAR UN PROCÉDÉ LITHOGRAPHIQUE
Abstract:
La présente invention a trait à un appareil de métrologie et à des procédés. Dans un agencement, un appareil de métrologie comprend un système optique qui éclaire une structure avec un rayonnement de mesure et détecte le rayonnement de mesure diffusé par la structure. Le système optique inclut un réseau de lentilles qui concentre le rayonnement de mesure diffusé sur un capteur. Un élément dispersif dirige un rayonnement de mesure diffusé dans chaque bande d'une pluralité de bandes de longueurs d'onde non chevauchantes exclusivement sur une lentille respective différente du réseau de lentilles.