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1. (WO2018035894) STRUCTURE DE PIXEL ET PROCÉDÉ DE FABRICATION
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N° de publication :    WO/2018/035894    N° de la demande internationale :    PCT/CN2016/098561
Date de publication : 01.03.2018 Date de dépôt international : 09.09.2016
CIB :
H01L 21/84 (2006.01), H01L 27/12 (2006.01), H01L 29/06 (2006.01)
Déposants : WUHAN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD [CN/CN]; Tan,Yu Building C5, Biolake of Optics Valley, No.666 Gaoxin Avenue Wuhan East Lake High-Tech Development Zone Wuhan, Hubei 430070 (CN)
Inventeurs : CHEN, Yung sheng; (CN).
HSU, Hsiang lun; (CN)
Mandataire : ESSEN PATENT&TRADEMARK AGENCY; Hailrun Complex Block A Room 1709-1711 No.6021 Shennan Blvd,Futian District ShenZhen, Guangdong 518040 (CN)
Données relatives à la priorité :
201610708340.9 23.08.2016 CN
Titre (EN) PIXEL STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD
(FR) STRUCTURE DE PIXEL ET PROCÉDÉ DE FABRICATION
(ZH) 像素结构及制作方法
Abrégé : front page image
(EN)A pixel structure and manufacturing method. The pixel structure comprises: a substrate (11); an anode electrode layer (12) provided on the substrate (11); a plurality of pixel units (15) provided on the anode electrode layer (12) and arranged in a rectangular array, wherein each of the pixel units (15) comprises four sub-pixel units (151, 152, 153, 154) arranged in a rectangular array, and the emitting colours of two sub-pixel units (151, 152, 153, 154) facing each other on the adjacent side of any two adjacent pixel units (15) are the same; and a cathode electrode layer (18) provided on the plurality of pixel units (15). Therefore, when a metal photomask is used to form the plurality of pixel units (15), a mask opening can be shared by one sub-pixel unit (151, 152, 153, 154) of at least four pixel units (15), so as to improve the process capability of the metal photomask and the resolution of a display screen.
(FR)L'invention concerne une structure de pixel et son procédé de fabrication. La structure de pixel comprend : un substrat (11); une couche d'électrode d'anode (12) disposée sur le substrat (11); une pluralité d'unités de pixel (15) disposée sur la couche d'électrode d'anode (12) et agencée dans un réseau rectangulaire, chacune des unités de pixel (15) comprenant quatre unités de sous-pixel (151, 152, 153, 154) disposées dans un réseau rectangulaire, et les couleurs d'émission de deux unités de sous-pixels (151, 152, 153, 154) se faisant face sur le côté adjacent de deux unités de pixel adjacentes quelconques (15) sont identiques; et une couche d'électrode de cathode (18) disposée sur la pluralité d'unités de pixel (15). Par conséquent, lorsqu'un photo-masque métallique est utilisé pour former la pluralité d'unités de pixel (15), une ouverture de masque peut être partagée par une unité de sous-pixel (151, 152, 153, 154) d'au moins quatre unités de pixel (15), de manière à améliorer la capacité de traitement du photo-masque métallique et la résolution d'un écran d'affichage.
(ZH)一种像素结构及制作方法,该像素结构包括:一基板(11);阳极电极层(12),其设置于基板(11)上;多个像素单元(15),其设置于阳极电极层(12)上并呈矩形阵列排布,每一像素单元(15)包括四个呈矩形阵列排布的子像素单元(151,152,153,154);任意相邻两个像素单元(15)的相邻的一侧上的相互正对的两个子像素单元(151,152,153,154)的发光颜色相同;阴极电极层(18),其设置于多个像素单元(15)之上。因此,在采用金属光罩来形成该多个像素单元(15)时,可以使得至少四个像素单元(15)的一个子像素单元(151,152,153,154)共用一个光罩开口,从而提高金属光罩的制程能力和显示屏的解析度。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)