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1. (WO2018035571) APPAREIL DE PURIFICATION DE GAZ
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N° de publication : WO/2018/035571 N° de la demande internationale : PCT/AU2017/050902
Date de publication : 01.03.2018 Date de dépôt international : 25.08.2017
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 21.02.2018
CIB :
B03C 3/02 (2006.01) ,B03C 3/09 (2006.01) ,B03C 3/38 (2006.01) ,B03C 3/41 (2006.01) ,H05H 1/02 (2006.01)
Déposants : VOSSOUGHI KHAZAEI, Saeid[AU/AU]; AU
Inventeurs : VOSSOUGHI KHAZAEI, Saeid; AU
Mandataire : PHILLIPS ORMONDE FITZPATRICK; Level 16 333 Collins Street Melbourne, Victoria 3000, AU
Données relatives à la priorité :
201690341126.08.2016AU
Titre (EN) A GAS PURIFYING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE PURIFICATION DE GAZ
Abrégé : front page image
(EN) A gas purifying apparatus, including: at least one cylindrical ground electrode configured to receive gas flowing therethrough; a discharge electrode disposed centrally within each of the at least one cylindrical ground electrode; and a power supply electrically connected to the discharge electrode and the at least one cylindrical ground electrode so as to produce an electric field and a corona discharge from the discharge electrode to a corresponding cylindrical ground electrode to generate ions and free electrons into the gas to ionise substances in the gas for gas purification, wherein the discharge electrode and the corresponding cylindrical ground electrode form at least one plasma chamber when power from the power supply is applied, and wherein the discharge electrode includes: at least one annular plate having an outer edge extending towards the corresponding cylindrical ground electrode, and whereby the electric field produced between the edge and the corresponding cylindrical ground electrode is uniform such that the gas flowing through the plasma chamber is exposed to the uniform electric field and to the ions and free electrons for gas purification.
(FR) L'invention concerne un appareil de purification de gaz, comprenant : au moins une électrode de masse cylindrique configurée pour recevoir un gaz qui s'écoule à travers celle-ci ; une électrode de décharge disposée au centre à l'intérieur de ladite électrode de masse cylindrique ; et une alimentation électrique reliée électriquement à l'électrode de décharge et à ladite électrode de masse cylindrique de manière à produire un champ électrique et une décharge à effet de couronne depuis l'électrode de décharge vers une électrode de masse cylindrique correspondante afin de générer des ions et des électrons libres dans le gaz pour ioniser des substances dans le gaz en vue de la purification du gaz. L'électrode de décharge et l'électrode de masse cylindrique correspondante forment au moins une chambre à plasma lorsque l'énergie de l'alimentation électrique est appliquée, et l'électrode de décharge comprend : au moins une plaque annulaire qui possède un bord externe s'étendant vers l'électrode de masse cylindrique correspondante, et le champ électrique produit entre le bord et l'électrode de masse cylindrique correspondante étant uniforme de sorte que le gaz qui s'écoule à travers la chambre à plasma est exposé au champ électrique uniforme ainsi qu'aux ions et aux électrons libres pour la purification du gaz.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)