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1. (WO2018034715) GRILLES DE SÉPARATION POUR UNE CHAMBRE PLASMA
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N° de publication :    WO/2018/034715    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/031847
Date de publication : 22.02.2018 Date de dépôt international : 10.05.2017
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : MATTSON TECHNOLOGY, INC. [US/US]; 47131 BAYSIDE PARKWAY FREMONT, California 94538 (US)
Inventeurs : VANIAPURA, Vijay M.; (US).
MA, Shawming; (US).
NAGORNY, Vladimir; (US).
PAKULSKI, Ryan M.; (US)
Mandataire : WORKMAN, J., Parks; (US)
Données relatives à la priorité :
62/376,594 18.08.2016 US
Titre (EN) SEPARATION GRID FOR PLASMA CHAMBER
(FR) GRILLES DE SÉPARATION POUR UNE CHAMBRE PLASMA
Abrégé : front page image
(EN)Separation grids for plasma processing apparatus are provided. In some embodiments, a plasma processing apparatus includes a plasma chamber. The plasma processing apparatus includes a processing chamber. The processing chamber can be separated from the plasma chamber. The apparatus can include a separation grid. The separation grid can separate the plasma chamber and the processing chamber. The apparatus can include a temperature control system. The temperature control system can be configured to regulate the temperature of the separation grid to affect a uniformity of a plasma process on a substrate. In some embodiments, a separation grid can have a varying thickness profile across a cross-section of the separation grid to affect a flow of neutral species through the separation grid.
(FR)L'invention concerne des grilles de séparation pour un dispositif de traitement au plasma. Dans certains modes de réalisation, un dispositif de traitement au plasma comprend une chambre plasma. Le dispositif de traitement au plasma comprend une chambre de traitement. La chambre de traitement peut être séparée de la chambre plasma. Le dispositif peut comprendre une grille de séparation. La grille de séparation peut séparer la chambre plasma et la chambre de traitement. Le dispositif peut comprendre un système de régulation de température. Le système de régulation de température peut être configuré pour réguler la température de la grille de séparation pour affecter une uniformité d'un processus de plasma sur un substrat. Dans certains modes de réalisation, une grille de séparation peut avoir un profil d'épaisseur variable sur une section transversale de la grille de séparation pour affecter un écoulement d'espèces neutres à travers la grille de séparation.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)