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1. (WO2018034437) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉCHANTILLON SERVANT À LA MESURE ET L'ANALYSE DE PROPRIÉTÉS DE FILM MINCE, ET ÉCHANTILLON AINSI FABRIQUÉ
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N° de publication :    WO/2018/034437    N° de la demande internationale :    PCT/KR2017/007879
Date de publication : 22.02.2018 Date de dépôt international : 21.07.2017
CIB :
G01N 1/28 (2006.01), G01N 1/36 (2006.01), H01L 21/306 (2006.01), H01L 29/16 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01), H01L 21/033 (2006.01)
Déposants : SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION [KR/KR]; 1, Gwanak-ro Gwanak-gu Seoul 08826 (KR)
Inventeurs : KIM, Ki-Bum; (KR).
KIM, Min-Sik; (KR).
KIM, Hyun-Mi; (KR).
KIM, Ki-Ju; (KR)
Mandataire : YOO, Jong Woo; (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2016-0103476 16.08.2016 KR
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING SAMPLE FOR THIN FILM PROPERTY MEASUREMENT AND ANALYSIS, AND SAMPLE MANUFACTURED THEREBY
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉCHANTILLON SERVANT À LA MESURE ET L'ANALYSE DE PROPRIÉTÉS DE FILM MINCE, ET ÉCHANTILLON AINSI FABRIQUÉ
(KO) 박막 물성측정 및 분석용 시료 제작 방법 및 이에 의해 제작된 시료
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a method for manufacturing a sample for thin film property measurement and analysis, and a sample manufactured thereby and, more specifically, to: a method for manufacturing a sample capable of measuring or analyzing various properties in one sample; and a sample manufactured thereby. According to the present invention, a method for manufacturing a sample for thin film property measurement and analysis: forms a first layer made of an insulation material on the front surface of a substrate; forms a second layer on the back surface of the substrate; patterns the second layer; etching the back surface of the substrate by using the patterned second layer as a mask so as to form a through hole penetrating through the front surface and the back surface of the substrate, thereby exposing at least one part of the surface of the first layer facing the substrate; partially etches the exposed part of the first layer through the back surface of the substrate; and forms the thin film, to be measured and analyzed, on a surface opposite the surface of the first layer facing the substrate.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un échantillon servant à la mesure et à l'analyse de propriétés de film mince, et un échantillon ainsi fabriqué, et plus précisément : un procédé de fabrication d'un échantillon apte à mesurer ou à analyser diverses propriétés dans un échantillon ; et un échantillon ainsi fabriqué. Selon la présente invention, un procédé de fabrication d'un échantillon servant à la mesure et à l'analyse de propriétés de film mince : forme une première couche constituée d'un matériau d'isolation sur la surface avant d'un substrat ; forme une seconde couche sur la surface arrière du substrat ; forme des motifs sur la seconde couche ; grave la surface arrière du substrat au moyen de la seconde couche à motifs en tant que masque afin de former un trou traversant pénétrant à travers la surface avant et la surface arrière du substrat, exposant ainsi au moins une partie de la surface de la première couche faisant face au substrat ; grave partiellement la partie exposée de la première couche à travers la surface arrière du substrat ; et forme le film mince, à mesurer et à analyser, sur une surface opposée à la surface de la première couche faisant face au substrat.
(KO)본 발명은 박막 물성측정 및 분석용 시료 제작 방법 및 이에 의해 제작된 시료에 관한 것으로, 보다 상세하게는 하나의 시료에서 여러 가지 물성을 측정하거나 분석할 수 있는 시료를 제작하는 방법 및 이에 의해 제작된 시료에 관한 것이다. 본 발명에 따른 박막 물성측정 및 분석용 시료 제작 방법은 기판의 전면에 절연 물질로 이루어진 제1층을 형성하고, 기판의 후면에 제2층을 형성하고, 제2층을 패터닝하고, 패터닝된 제2층을 마스크로 이용하여 기판의 후면을 식각하여 기판의 전면과 후면을 관통하는 관통공을 형성함으로써 제1층의 기판과 대향하는 면의 일부를 하나 이상 노출시키고, 기판의 후면을 통하여 제1층의 노출된 부분을 일부 식각하고, 그리고 제1층의 기판과 대향하는 면의 반대면 상에 대상 박막을 형성한다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)