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1. (WO2018034413) DISPOSITIF DE DÉPÔT POURVU D'UN DISPOSITIF D'ACTIVATION DE PLASMA
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N° de publication :    WO/2018/034413    N° de la demande internationale :    PCT/KR2017/006174
Date de publication : 22.02.2018 Date de dépôt international : 14.06.2017
CIB :
C23C 14/24 (2006.01), C23C 14/06 (2006.01), C23C 14/26 (2006.01), C23C 14/52 (2006.01), C23C 14/56 (2006.01), H01L 31/0392 (2006.01)
Déposants : JMON CO., LTD. [KR/KR]; (IT Venture Town, Tamlip-dong) #305, 35, Techno 9-ro Yuseong-gu Daejeon 34027 (KR)
Inventeurs : YOON, Jong-Man; (KR).
SONG, Hye-Jin; (KR).
LEE, Wan-Hee; (KR).
LEE, Hyuk; (KR)
Mandataire : LEE, Han-Ook; (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2016-0104694 18.08.2016 KR
Titre (EN) DEPOSITION DEVICE PROVIDED WITH PLASMA ACTIVATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE DÉPÔT POURVU D'UN DISPOSITIF D'ACTIVATION DE PLASMA
(KO) 플라즈마 활성화 장치가 구비된 증착장치
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a deposition device provided with a plasma activation device, comprising a cracker coupled to a lower side of a processing chamber and decomposing selenium or sulfur gas dispersed toward a sample placed in the processing chamber so as to form a deposited thin film on the surface of the sample, thereby increasing the reactivity. The present invention provides a deposition device provided with a plasma activation device, which comprises a storage part for storing selenium or sulfur and evaporating the selenium or sulfur into a gas, and a cracker part connected so as to be in communication with an upper portion of the storage part, and decomposing and activating the evaporated selenium or sulfur by using plasma energy, and further comprises: a storage part heater installed to surround the outside of the storage part; and a gas inlet, formed in a lower end side of the cracker part, for injecting a reaction gas for accelerating the decomposition of the selenium or sulfur gas.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de dépôt pourvu d'un dispositif d'activation de plasma, comprenant un craqueur couplé à un côté inférieur d'une chambre de traitement et décomposant du sélénium ou du soufre gazeux dispersé vers un échantillon placé dans la chambre de traitement, de manière à former un film mince déposé sur la surface de l'échantillon, afin d'augmenter ainsi la réactivité. La présente invention concerne un dispositif de dépôt pourvu d'un dispositif d'activation de plasma, qui comprend une partie de stockage pour stocker du sélénium ou du soufre et évaporer le sélénium ou le soufre sous forme de gaz, et une partie craqueur reliée de façon à être en communication avec une partie supérieure de la partie de stockage, et qui décompose et active le sélénium ou le soufre évaporé au moyen d'énergie plasmatique, et comprend en outre : un dispositif de chauffage de partie de stockage, installé de manière à entourer l'extérieur de la partie de stockage ; et une entrée de gaz, formée au niveau d'une extrémité inférieure de la partie craqueur, pour injecter un gaz de réaction destiné à accélérer la décomposition du sélénium ou du soufre gazeux.
(KO)본 발명은 공정 챔버의 하부 일측에 결합되어서 시편의 표면에 증착 박막을 형성하기 위해 상기 공정 챔버 내부에 놓여진 상기 시편을 향해 분산되는 셀레늄 또는 황 기체를 분해하여 반응성을 높일 수 있는 크래커를 포함한 플라즈마 활성화 장치가 구비된 증착장치에 관한 것으로, 상기 셀레늄 또는 황을 저장하고 상기 셀레늄 또는 황을 기체로 증발시키는 저장부 및 상기 저장부의 상부와 연통되도록 연결되고 증발된 상기 셀레늄 또는 황을 플라즈마 에너지를 이용해 분해 및 활성화 시키는 크래커부를 포함하되, 상기 저장부 외부를 감싸며 설치되는 저장부 히터와, 상기 크래커부 하단 일측에 형성되어 상기 셀레늄 또는 황 기체의 분해를 촉진하기 위한 반응 가스가 주입되는 가스주입구를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 활성화 장치가 구비된 증착장치를 제공한다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)