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1. (WO2018034056) APPAREIL D'INSPECTION DE DÉFAUTS, PROCÉDÉ D'INSPECTION DE DÉFAUTS, ET PROGRAMME
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N° de publication : WO/2018/034056 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/022740
Date de publication : 22.02.2018 Date de dépôt international : 20.06.2017
CIB :
G01N 23/18 (2006.01) ,G01N 23/04 (2006.01) ,G01N 23/203 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION[JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Inventeurs : KANEKO, Yasuhiko; JP
Mandataire : MATSUURA, Kenzo; JP
Données relatives à la priorité :
2016-16076918.08.2016JP
Titre (EN) DEFECT INSPECTION DEVICE, DEFECT INSPECTION METHOD, AND PROGRAM
(FR) APPAREIL D'INSPECTION DE DÉFAUTS, PROCÉDÉ D'INSPECTION DE DÉFAUTS, ET PROGRAMME
(JA) 欠陥検査装置、欠陥検査方法、およびプログラム
Abrégé : front page image
(EN) The purpose of the present invention is to provide a defect inspection device, a defect inspection method, and a program, whereby a defect candidate image represented by a weak signal and a minute defect can be accurately and rapidly detected in a light reception image of an inspection object. A defect inspection device (10) is provided with: an image acquisition unit (I/F16); an input unit (I/F16); an exposure condition acquisition unit (I/F16); a storage unit (24); a parameter determination unit (processing unit 22) for determining an image processing parameter for a light reception image on the basis of an exposure condition acquired by the exposure condition acquisition unit, a physical characteristic received by the input unit, and exposure information stored in the storage unit; and an image processing unit (processing unit 22) for performing image processing of the light reception image on the basis of the image processing parameter determined by the parameter determination unit (processing unit 22), and thereby extracting from the light reception image a defect candidate image which is an image corresponding to a defect candidate of an inspection object.
(FR) La présente invention vise à fournir un dispositif d'inspection de défauts, un procédé d'inspection de défauts et un programme, moyennant quoi une image de candidat défaut représentée par un signal faible et un minuscule défaut peut être détectée de manière précise et rapide sur une image de réception de lumière d'un objet d'inspection. Un dispositif d'inspection de défauts (10) est pourvu : d'une unité d'acquisition d'image (I/F16) ; d'une unité d'entrée (I/F16) ; d'une unité d'acquisition de condition d'exposition (I/F16) ; d'une unité de stockage (24) ; d'une unité de détermination de paramètre (unité de traitement (22)) pour déterminer un paramètre de traitement d'image pour une image de réception de lumière sur la base d'une condition d'exposition acquise par l'unité d'acquisition de condition d'exposition, d'une caractéristique physique reçue par l'unité d'entrée, et des informations d'exposition stockées dans l'unité de stockage ; et d'une unité de traitement d'image (unité de traitement (22)) pour effectuer un traitement d'image de l'image de réception de lumière sur la base du paramètre de traitement d'image déterminé par l'unité de détermination de paramètre (unité de traitement (22)), et ainsi extraire de l'image de réception de lumière une image de candidat défaut qui est une image correspondant à un candidat défaut d'un objet inspecté.
(JA) 本発明は、被検査体の受光画像において微小な欠陥および微弱な信号で表された欠陥候補画像を正確に且つ迅速に検出することができる欠陥検査装置、欠陥検査方法、およびプログラムを提供することを目的とする。欠陥検査装置(10)は、画像取得部(I/F16)と、入力部(I/F16)と、露光条件取得部(I/F16)と、記憶部(24)と、露光条件取得部で取得された露光条件、入力部で受け付けられた物理的特徴、および記憶部で記憶された露光情報に基づいて、受光画像に対する画像処理パラメータを決定するパラメータ決定部(処理部22)と、パラメータ決定部(処理部22)で決定された画像処理パラメータに基づいて、受光画像の画像処理を行うことにより、受光画像から被検査体の欠陥候補に対応する画像である欠陥候補画像を抽出する画像処理部(処理部22)と、を備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)