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1. (WO2018033916) SYSTÈME À HÉTÉRO-STRUCTURE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ASSOCIÉ
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N° de publication :    WO/2018/033916    N° de la demande internationale :    PCT/IL2017/050907
Date de publication : 22.02.2018 Date de dépôt international : 16.08.2017
CIB :
H01L 21/70 (2006.01), H01L 21/762 (2006.01), H01L 21/02 (2006.01), H01L 21/20 (2006.01)
Déposants : RAMOT AT TEL-AVIV UNIVERSITY LTD. [IL/IL]; P.O. Box 39296 6139201 Tel-Aviv (IL)
Inventeurs : DAGAN, Yoram; (IL).
MARKOVICH, Gil; (IL).
RON, Alon; (IL).
HEVRONI, Amir; (IL)
Mandataire : EHRLICH, Gal; (IL).
WATERMAN, Hadassa; (IL).
MELNICK, Geoffrey, L.; (IL)
Données relatives à la priorité :
62/375,508 16.08.2016 US
Titre (EN) HETEROSTRUCTURE SYSTEM AND METHOD OF FABRICATING THE SAME
(FR) SYSTÈME À HÉTÉRO-STRUCTURE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ASSOCIÉ
Abrégé : front page image
(EN)A method of fabricating a heterostructure system, comprises epitaxially growing a crystalline layer of a first substance on a crystalline base layer by surface catalysis in a solution, wherein the growth is self-terminated once a monolayer of the substance is formed on the base layer.
(FR)Un procédé de fabrication d'un système à hétéro-structure comprend la croissance épitaxiale d'une couche cristalline d'une première substance sur une couche de base cristalline par catalyse de surface dans une solution, la croissance étant auto-terminée une fois qu'une monocouche de la substance est formée sur la couche de base.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)