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1. (WO2018033707) FABRICATION D'UN FILM DE MATÉRIAU À CORRÉLATION ÉLECTRONIQUE PAR EXPOSITION À UNE ÉNERGIE ULTRAVIOLETTE
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N° de publication :    WO/2018/033707    N° de la demande internationale :    PCT/GB2017/052367
Date de publication : 22.02.2018 Date de dépôt international : 10.08.2017
CIB :
H01L 45/00 (2006.01), C23C 16/48 (2006.01)
Déposants : ARM LTD [GB/GB]; 110 Fulbourn Road Cambridge CB1 9NJ (GB)
Inventeurs : REID, Kimberly Gay; (GB).
SHIFREN, Lucian; (GB)
Mandataire : TLIP LTD; Leeds Innovation Centre 103 Clarendon Road Leeds Yorkshire LS2 9DF (GB)
Données relatives à la priorité :
15/237,357 15.08.2016 US
Titre (EN) FABRICATION OF CORRELATED ELECTRON MATERIAL FILM VIA EXPOSURE TO ULTRAVIOLET ENERGY
(FR) FABRICATION D'UN FILM DE MATÉRIAU À CORRÉLATION ÉLECTRONIQUE PAR EXPOSITION À UNE ÉNERGIE ULTRAVIOLETTE
Abrégé : front page image
(EN)Subject matter disclosed herein may relate to fabrication of correlated electron materials used, for example, to perform a switching function. In embodiments, processes are described, in which an ultraviolet light source is utilized during fabrication of a correlated electron material. In embodiments, use of ultraviolet light may decrease a likelihood of diffusion of atomic and/or molecular components of a substrate that may bring about undesirable electrical performance of a CEM device.
(FR)La présente invention concerne la fabrication de matériaux à corrélation électronique utilisés, par exemple, pour effectuer une fonction de commutation. Selon des modes de réalisation, l'invention concerne des procédés, selon lesquels une source de lumière ultraviolette est utilisée lors de la fabrication d'un matériau à corrélation électronique. Selon des modes de réalisation, l'utilisation d'une lumière ultraviolette peut réduire une probabilité de diffusion de composants atomiques et/ou moléculaires d'un substrat qui peut provoquer une performance électrique indésirable d'un dispositif en matériau à corrélation électronique (CEM).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)