Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales

1. (WO2018033586) PROCÉDÉ DE DÉPÔT DE FILM

Pub. No.:    WO/2018/033586    International Application No.:    PCT/EP2017/070795
Publication Date: Fri Feb 23 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Thu Aug 17 01:59:59 CEST 2017
IPC: C23C 14/56
C23C 14/50
C23C 14/54
Applicants: FLISOM AG
Inventors: SCHLAEPPI, Bernhard
AKERMANN, Michael
Title: PROCÉDÉ DE DÉPÔT DE FILM
Abstract:
L’invention concerne un procédé de dépôt de film semi-conducteur sur un substrat souple (450), le procédé comprenant le transport du substrat souple (450) entre un moyeu de déroulement (110) et un moyeu de capture (210) ; l’application d’une tension initiale sur une première électrode (5101) espacée du substrat souple (450) dans une première direction (z), le substrat souple (450) est disposé entre une première source d'évaporation (3001) et la première électrode (5101) ; le guidage d’un matériau de dépôt de la première source d'évaporation (3001) au substrat souple (450) pour déposer une première couche sur une première surface (450A) du substrat souple (450) ; et la mesure d’une propriété de la première couche déposée sur le substrat souple (450).