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1. (WO2018033511) PROCÉDÉ DE RENFORCEMENT DU RENDEMENT DE FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEURS
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N° de publication : WO/2018/033511 N° de la demande internationale : PCT/EP2017/070567
Date de publication : 22.02.2018 Date de dépôt international : 14.08.2017
CIB :
G05B 19/418 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V.[NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
HERMES MICROVISION, INC.; 7F, No.18, Puding Rd., East Dist. Hsinchu City, 300, TW
Inventeurs : FANG, Wei; US
Mandataire : PETERS, John; NL
Données relatives à la priorité :
62/375,25715.08.2016US
62/543,24209.08.2017US
Titre (EN) METHOD FOR ENHANCING THE SEMICONDUCTOR MANUFACTURING YIELD
(FR) PROCÉDÉ DE RENFORCEMENT DU RENDEMENT DE FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEURS
Abrégé : front page image
(EN) Embodiments of the present disclosure provide systems and methods for enhancing the semiconductor manufacturing yield. Embodiments of the present disclosure provide a yield improvement system. The system comprises a training tool configured to generate training data based on receipt of one or more verified results of an inspection of a first substrate. The system also comprises a point determination tool configured to determine one or more regions on a second substrate to inspect based on the training data, weak point information for the second substrate, and an exposure recipe for a scanner of the second substrate.
(FR) Selon des modes de réalisation, la présente invention concerne des systèmes et des procédés de renforcement du rendement de fabrication de semi-conducteurs. Selon des modes de réalisation, la présente invention concerne un système d’amélioration de rendement. Le système comprend un outil d’apprentissage servant à générer des données d’apprentissage sur la base de la réception d’un ou plusieurs résultats vérifiés d’une inspection d’un premier substrat. Le système comprend également un outil de détermination de points servant à déterminer une ou plusieurs zones sur un deuxième substrat à inspecter sur la base des données d’apprentissage, d’informations de points faibles pour le deuxième substrat, et d’une recette d’exposition pour un numériseur du deuxième substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)