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1. (WO2018030357) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
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N° de publication :    WO/2018/030357    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/028634
Date de publication : 15.02.2018 Date de dépôt international : 07.08.2017
CIB :
B65H 26/00 (2006.01), B65G 49/06 (2006.01), B65H 23/188 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), G03F 7/24 (2006.01), H01L 21/677 (2006.01), H01L 21/683 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290 (JP)
Inventeurs : KITO Yoshiaki; (JP).
KATO Masaki; (JP).
NARA Kei; (JP).
HORI Masakazu; (JP).
KIUCHI Tohru; (JP)
Mandataire : CHIBA Yoshihiro; (JP).
MIYADERA Toshiyuki; (JP).
SENBA Takayuki; (JP).
OUCHI Hideharu; (JP).
NAKASONE Yasuharu; (JP).
SAKAI Shiro; (JP).
SEKIGUCHI Kosuke; (JP).
YAMANO Akira; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-155810 08.08.2016 JP
Titre (EN) SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理装置および基板処理方法
Abrégé : front page image
(EN)A substrate processing device that transports a longitudinal sheet substrate in the longitudinal direction and carries out a predetermined process on the sheet substrate, wherein the device is provided with: a processing mechanism that carries out a predetermined process for each portion of the sheet substrate in the longitudinal direction; a transport mechanism that transports the sheet substrate at a predetermined speed in the longitudinal direction while applying a predetermined tensile force to the sheet substrate that passes through the processing mechanism; an anchoring mechanism that is disposed in a specific position along a transport pathway for the sheet substrate and is capable of anchoring the sheet substrate to a specific position; and a control device that, when transport of the sheet substrate is temporarily stopped, controls the transport mechanism to reduce the transport speed of the sheet substrate, and controls the anchoring mechanism so that the sheet substrate is anchored to a specific position at the point in time at which the transport speed reaches a predetermined value or less.
(FR)L’invention concerne un dispositif de traitement de substrat qui transporte un substrat en feuille longitudinal dans la direction longitudinale et mettant en œuvre un processus prédéfini sur le substrat en feuille, le dispositif étant équipé : d'un mécanisme de traitement qui réalise un processus prédéfini pour chaque partie du substrat en feuille dans la direction longitudinale ; d’un mécanisme de transport qui transporte le substrat en feuille à une vitesse préétablie dans la direction longitudinale tout en appliquant une force de traction préétablie au substrat en feuille qui passe dans le mécanisme de traitement ; d’un mécanisme d'ancrage qui est disposé dans une position spécifique le long d'un trajet de transport pour le substrat en feuille et qui est apte à ancrer le substrat en feuille en une position spécifique ; et d’un dispositif de commande qui, lorsque le transport du substrat en feuille est temporairement arrêté, commande au mécanisme de transport de réduire la vitesse de transport du substrat en feuille, et commande le mécanisme d'ancrage de sorte que le substrat en feuille soit ancré en une position spécifique au moment où la vitesse de transport atteint une valeur préétablie ou inférieure.
(JA)長尺のシート基板を長尺方向に搬送して、シート基板に所定の処理を施す基板処理装置であって、シート基板の長尺方向の一部分ごとに所定の処理を施す処理機構と、処理機構を通るシート基板に所定の張力を与えつつ、シート基板を所定速度で長尺方向に搬送する搬送機構と、シート基板の搬送経路中の特定位置に配置され、シート基板を特定位置に係留可能な係留機構と、シート基板の搬送を一時停止する場合は、シート基板の搬送速度を低下させるように搬送機構を制御すると共に、搬送速度が所定値以下になった時点でシート基板が特定位置に係留されるように係留機構を制御する制御装置と、を設ける。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)