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1. (WO2018029142) RÉSERVE CHIMIQUEMENT AMPLIFIÉE À FILM ÉPAIS ET STABLE SUR LE PLAN ENVIRONNEMENTAL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2018/029142    N° de la demande internationale :    PCT/EP2017/069943
Date de publication : 15.02.2018 Date de dépôt international : 07.08.2017
CIB :
G03F 7/039 (2006.01)
Déposants : AZ ELECTRONIC MATERIALS (LUXEMBOURG) S.À.R.L. [LU/LU]; 46 Place Guillaume II 1648 Luxembourg (LU)
Inventeurs : TOUKHY, Medhat A.; (US).
LIU, Weihong; (US).
LU, PingHung; (US)
Mandataire : FÉAUX DE LACROIX, Stefan; (DE)
Données relatives à la priorité :
62/372,573 09.08.2016 US
Titre (EN) ENVIROMENTALLY STABLE, THICK FILM, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST
(FR) RÉSERVE CHIMIQUEMENT AMPLIFIÉE À FILM ÉPAIS ET STABLE SUR LE PLAN ENVIRONNEMENTAL
Abrégé : front page image
(EN)Environmentally stable, chemically amplified (CA) positive resist compositions are described. These resist compositions are based on a blend of at least two types of polymer platforms. The first platform is a low activation energy, acetal blocked polyhydroxystyrene (PHS) based resin; the second platform is an acrylate based resin containing a high activation energy acid labile group [such as tertiary-butyl acrylate(t-BA)]. The resist composition also contains a photo-acid generator (PAG), a base quencher, a surfactant dissolved in a suitable solvent. Also described, is the use of these resist composition in a method for forming a photoresist relief image on a substrate.
(FR)L'invention porte sur des compositions de réserve positive chimiquement amplifiée (CA) et stable sur le plan environnemental. Ces compositions de réserve sont à base d'un mélange d'au moins deux types de plateformes de polymères. La première plateforme est une résine à faible énergie d'activation à base de polyhydroxystyrène bloqué d'acétal (PHS) et la seconde plateforme est une résine à base d'acrylate comprenant un groupe labile en milieu acide à énergie d'activation élevée [tel que l'acrylate butylique tertiaire (t-BA)]. La composition de réserve comprend également un photogénérateur d'acide (PAG), un extincteur de base et un tensio-actif dissout dans un solvant approprié. L'invention porte également sur l'utilisation de cette composition de réserve dans un procédé de formation d'une image en relief en résine photosensible sur un substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)