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1. (WO2018029018) ÉMETTEUR D'ÉLECTRONS ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ASSOCIÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/029018 N° de la demande internationale : PCT/EP2017/069270
Date de publication : 15.02.2018 Date de dépôt international : 31.07.2017
CIB :
H01J 9/02 (2006.01) ,H01J 1/14 (2006.01) ,H01J 1/304 (2006.01) ,H01J 37/06 (2006.01) ,H01J 37/065 (2006.01) ,H01J 37/073 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V.[NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
HERMES MICROVISION, INC.[CN/CN]; 7F, No.18, Puding Rd., East Dist. Hsinchu City, 300, TW
Inventeurs : DOU, Juying; US
FAN, Zheng; TW
KUO, Tzu-Yi; TW
CHEN, Zhongwei; US
Mandataire : PETERS, John; NL
Données relatives à la priorité :
62/372,08408.08.2016US
62/531,79312.07.2017US
Titre (EN) ELECTRON EMITTER AND METHOD OF FABRICATING SAME
(FR) ÉMETTEUR D'ÉLECTRONS ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ASSOCIÉ
Abrégé : front page image
(EN) Electron emitters and methods of fabricating the electron emitters are disclosed. According to certain embodiments, an electron emitter includes a tip with a planar region having a diameter in a range of approximately (0.05-10) micrometers. The electron emitter tip is configured to release field emission electrons. The electron emitter further includes a work-function-lowering material coated on the tip.
(FR) L'invention concerne des émetteurs d'électrons et des procédés de fabrication associés. Dans certains modes de réalisation, un émetteur d'électrons comprend une pointe comportant une zone plane présentant un diamètre compris sur une plage d'environ 0,05-10 micromètres. La pointe d'émetteur d'électrons est conçue pour libérer des électrons à émission de champ. L'émetteur d'électrons selon l'invention comporte également un matériau abaissant le travail d'extraction recouvrant la pointe.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)