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1. (WO2018028514) AGENT DE GRAVURE DE CHLORURE DE CUIVRE ALCALIN, HAUTE EFFICACITÉ ET ÉCOLOGIQUE POUR CIRCUITS IMPRIMÉS
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N° de publication :    WO/2018/028514    N° de la demande internationale :    PCT/CN2017/095947
Date de publication : 15.02.2018 Date de dépôt international : 04.08.2017
CIB :
C23F 1/34 (2006.01)
Déposants : YE, Tao [CN/CN]; (CN)
Inventeurs : YE, Tao; (CN)
Mandataire : GUANGZHOU ZHIYOU PATENT & TRADEMARK AGENCY CO., LTD; Room 2305-06 Yuehai Group Building, 555 Dong Feng Dong Road, Yuexiu Disrict Guangzhou, Guangdong 510050 (CN)
Données relatives à la priorité :
201610647941.3 09.08.2016 CN
Titre (EN) HIGH-EFFICIENCY AND ENVIRONMENTALLY FRIENDLY ALKALINE COPPER CHLORIDE ETCHANT FOR PRINTED CIRCUIT BOARD
(FR) AGENT DE GRAVURE DE CHLORURE DE CUIVRE ALCALIN, HAUTE EFFICACITÉ ET ÉCOLOGIQUE POUR CIRCUITS IMPRIMÉS
(ZH) 一种高效且环保的印刷线路板碱性氯化铜蚀刻液
Abrégé : front page image
(EN)A high-efficiency and environmentally friendly alkaline copper chloride etchant for a printed circuit board, comprising copper chloride and a sub-etchant. The specific gravity of the etchant is controlled by an automatic detection feeding control machine, so that the concentration of the copper ions in the etchant reaches a set value. The sub-etchant comprises the following in percentage by weight: 10 to 30 percent of ammonium chloride, 0.0002 to 25 percent of carboxylic acid and/or ammonium carboxylate, 0.01 to 45 percent of ammonium carbonate and/or ammonium bicarbonate, 0.0001 to 20 percent of one or more selected from hydroxylamine hydrochloride, hydroxylamine sulphate and hydrazine hydrate, the balance being water. The initial feed amount B of copper chloride is calculated according to the following formula: B=(134.5/63.5)× the set value of the copper ion concentration A; the control parameter of the production process of the resulting etchant is set to be: the copper ion concentration of 30-170 g/L.
(FR)La présente invention concerne un agent de gravure de chlorure de cuivre alcalin, haute efficacité et écologique, pour un circuit imprimé, comprenant du chlorure de cuivre et un sous-agent de gravure. La densité de l'agent de gravure est régulée par une machine de régulation d'alimentation à détection automatique, de sorte que la concentration des ions cuivre dans l'agent de gravure atteint une valeur fixée. Le sous-agent de gravure comprend les éléments suivants en pourcentages massiques : de 10 à 30 % de chlorure d'ammonium, de 0,0002 à 25 % d'acide carboxylique et/ou de carboxylate d'ammonium, de 0,01 à 45 % de carbonate d'ammonium et/ou de bicarbonate d'ammonium, de 0,0001 à 20 % d'un ou de plusieurs composés choisis parmi le chlorhydrate d'hydroxylamine, le sulfate d'hydroxylamine et l'hydrate d'hydrazine, le reste étant constitué d'eau. La quantité d'alimentation initiale B de chlorure de cuivre est calculée selon la formule suivante : B=(134,5/63,5)× la valeur fixée de la concentration en ions cuivre A; le paramètre de régulation du procédé de production de l'agent de gravure résultant est configuré comme suit : une concentration en ions cuivre de 30 à 170 g/L.
(ZH)一种高效且环保的印刷线路板碱性氯化铜蚀刻液,包括氯化铜、蚀刻子液,使用自动检测投料控制机对蚀刻液的比重进行控制,使蚀刻液中的铜离子浓度达到设定的数值;蚀刻子液按重量百分比包含:氯化铵10~30%,羧酸和/或羧酸铵0.0002~25%,碳酸铵和/或碳酸氢铵0.01~45%,选自盐酸羟胺、硫酸羟胺、水合肼中的一种或多种0.0001~20%,其余为水;氯化铜初始投放量B根据以下公式计算得到:B=(134.5/63.5)×铜离子浓度设定值A;所得的蚀刻液生产工艺控制参数设定:铜离子浓度为30-170g/L。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)