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1. (WO2018026543) ÉLECTRODE, COLONNE D'ACCÉLÉRATEUR ET APPAREIL D'IMPLANTATION IONIQUE COMPRENANT CETTE DERNIÈRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2018/026543    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/043277
Date de publication : 08.02.2018 Date de dépôt international : 21.07.2017
CIB :
H01J 37/08 (2006.01), H01J 37/317 (2006.01), H05H 7/06 (2006.01)
Déposants : VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. [US/US]; 35 Dory Road Gloucester, Massachusetts 01930 (US)
Inventeurs : LUPOLI, Christopher; (US).
DURGIN, Sheri A.; (US).
MCGILLICUDDY, Daniel; (US).
THERIAULT, Victor J.; (US).
BECKER, Klaus; (US)
Mandataire : ROY, Ronnen; (US)
Données relatives à la priorité :
15/228,158 04.08.2016 US
Titre (EN) ELECTRODE, ACCELERATOR COLUMN AND ION IMPLANTATION APPARATUS INCLUDING SAME
(FR) ÉLECTRODE, COLONNE D'ACCÉLÉRATEUR ET APPAREIL D'IMPLANTATION IONIQUE COMPRENANT CETTE DERNIÈRE
Abrégé : front page image
(EN)An electrode for manipulating an ion beam. The electrode may include an insert having an ion beam aperture to conduct the ion beam therethrough, the insert comprising a first electrically conductive material; a frame disposed around the insert and comprising a second electrically conductive material; and an outer portion, the outer portion disposed around the frame and comprising a third electrically conductive material, wherein the insert is reversibly detachable from the frame, and wherein the frame is reversibly attachable from the outer portion.
(FR)La présente invention porte sur une électrode permettant de manipuler un faisceau d'ions. L'électrode peut comprendre un insert ayant un orifice de faisceau d'ions pour conduire le faisceau d'ions à travers ce dernier, l'insert comprenant un premier matériau électroconducteur ; un cadre disposé autour de l'insert et comprenant un deuxième matériau électroconducteur ; et une partie externe, la partie externe étant disposée autour du cadre et comprenant un troisième matériau électroconducteur, l'insert pouvant être détaché de manière réversible du cadre et le cadre pouvant être fixé de manière réversible à partir de la partie externe.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)